[发明专利]一种真空干燥装置、系统及真空干燥方法

说明书

本发明公开了一种真空干燥装置，包括真空室、设于所述真空室内的载台和阵列设于所述载台上的顶针，所述顶针通过吸附的方式固定在所述载台上，用于支撑在基板的显示区域外、具有虚拟像素单元的非显示区域。本发明还公开了一种真空干燥系统及真空干燥方法。本发明通过将真空干燥装置内的顶针设计为可活动的吸附式，在进行干燥处理前，通过将顶针支撑在基板的显示区域外、具有虚拟像素单元的非显示区域，可以避免基板上与顶针接触的区域出现pin Mura现象，提高了产品可靠性。

技术领域

本发明涉及彩色滤光片制作技术领域，尤其涉及一种真空干燥装置、系统及真空干燥方法。

背景技术

在CF(Color Filter，彩色滤光片)制程中，玻璃基板上涂覆光阻剂后，需要进行干燥，而普通的干燥工艺会由于光阻剂里的空气被高温释放而在光阻剂表面形成许多针孔状的凹凸构造，造成产品不合格。

而VCD(Vacuum Dry，即真空干燥)工艺可以避免此类现象发生，在CF制程中起着重要作用。光阻剂主要由树脂(Resin)、感光剂(Sensitizer)及溶剂(Solvent)等不同的成分混合而成，VCD工艺的主要作用是将光阻成分中的溶剂利用抽压的方式进行抽取完成初步干燥，然后利用HP(Hot Plate，加热板)、CP(Cold Plate，冷却板)完成后续制程。

目前的VCD工艺中，业界通常采用具有pin(即顶针)的支撑台支撑玻璃基板，然而，由于玻璃基板上的光阻与pin之间的温差敏感性导致玻璃基板上与pin接触的部位出现pinMura(色泽不均)，而且，由于众多pin以固定的间距阵列设置在支撑台上，当玻璃基板规格出现变化时，难免会有更多的pin出现在不该出现的部位，出现更多的pin Mura现象。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种真空干燥装置及真空干燥方法，可以避免玻璃基板上的pin Mura现象的发生。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种真空干燥装置，包括真空室、设于所述真空室内的载台和阵列设于所述载台上的顶针，所述顶针通过吸附的方式固定在所述载台上，用于支撑在基板的显示区域外、具有虚拟像素单元的非显示区域。

作为其中一种实施方式，所述真空室包括用于相互配合形成腔体的底座和上盖，所述载台固定在所述底座上。

作为其中一种实施方式，所述真空室具有进气口和排气口，所述进气口和所述排气口均开设于所述底座上。

作为其中一种实施方式，所述载台相对于所述底座悬空设置。

作为其中一种实施方式，所述顶针包括磁性的底座和连接所述底座的支撑部，所述顶针的所述底座通过磁吸附的方式固定在所述载台上。

作为其中一种实施方式，所述的真空干燥装置还包括滑动架和设于所述滑动架底部、用于取放所述顶针的取放机构，所述滑动架固定在所述真空室外，并可相对于所述载台的长度和宽度方向平移而进入所述真空室内。

作为其中一种实施方式，所述取放机构包括相连的固定座和限位爪，所述固定座固定在所述滑动架底部，且所述限位爪的末端形成弯勾部。

作为其中一种实施方式，所述取放机构在所述滑动架的长度方向上可滑动。

本发明的另一目的在于提供一种真空干燥系统，包括一种所述的真空干燥装置、处理单元、存储单元和输入单元，所述存储单元内存储有前一块干燥处理过的基板的非显示区域的边界坐标，所述输入单元用于接收待干燥处理的基板的非显示区域的边界坐标，所述处理单元用于对比前一块干燥处理过的基板的非显示区域的边界坐标与待干燥处理的基板的非显示区域的边界坐标，并相应调整各所述顶针的支撑位置。