[发明专利]一种真空干燥装置、系统及真空干燥方法

权利要求书

1.一种真空干燥装置，其特征在于，包括真空室(10)、设于所述真空室(10)内的载台(20)、阵列设于所述载台(20)上的顶针(30)以及滑动架(41)和设于所述滑动架(41)底部、用于取放所述顶针(30)的取放机构(42)，所述滑动架(41)固定在所述真空室(10)外，并可相对于所述载台(20)的长度和宽度方向平移而进入所述真空室(10)内；所述顶针(30)用于支撑在基板(P)的显示区域外、具有虚拟像素单元的非显示区域，包括磁性的底座(31)和连接所述底座(31)的支撑部(32)，所述顶针(30)的所述底座(31)通过磁吸附的方式固定在所述载台(20)上；所述取放机构(42)包括相连的固定座(421)和限位爪(422)，所述固定座(421)固定在所述滑动架(41)底部，且所述限位爪(422)的末端形成弯勾部；所述真空室(10)包括用于相互配合形成腔体的底座(11)和上盖(12)，所述载台(20)固定在所述底座(11)上；所述真空室(10)具有进气口(I)和排气口(O)，所述进气口(I)和所述排气口(O)均开设于所述底座(11)上；所述载台(20)相对于所述底座(11)悬空设置，且正好阻挡在所述进气口(I)和所述排气口(O)的上方，所述进气口(I)相对于所述排气口(O)更靠近所述底座(11)的边缘。

2.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述取放机构(42)在所述滑动架(41)的长度方向上可滑动。

3.一种真空干燥系统，其特征在于，包括权利要求1或2所述的真空干燥装置、处理单元(2)、存储单元(3)和输入单元(4)，所述存储单元(3)内存储有前一块干燥处理过的基板(P)的非显示区域的边界坐标，所述输入单元(4)用于接收待干燥处理的基板(P)的非显示区域的边界坐标，所述处理单元(2)用于对比前一块干燥处理过的基板(P)的非显示区域的边界坐标与待干燥处理的基板(P)的非显示区域的边界坐标，并相应调整各所述顶针(30)的支撑位置。

4.一种真空干燥方法，其特征在于，使用权利要求3所述的真空干燥系统，包括：接收待干燥处理的基板(P)的非显示区域的边界坐标，对比前一块干燥处理过的基板(P)的非显示区域的边界坐标与待干燥处理的基板(P)的非显示区域的边界坐标，并相应调整各所述顶针(30)的支撑位置。