[发明专利]一种含杂原子纳米碳材料及其制备方法和应用以及一种烃氧化脱氢反应方法有效

专利信息
申请号: 201710630736.0 申请日: 2017-07-28
公开(公告)号: CN109305665B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 谢婧新;荣峻峰;李嘉权;于鹏;林伟国;史春风;宗明生 申请(专利权)人: 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院
主分类号: C01B32/15 分类号: C01B32/15;C01B32/168;C01B32/194;C01B32/21;C01B32/28;C01B32/156;B01J27/22;B01J35/10;B01J37/12;B01J37/18;B01J37/02;C07C11/08;C07C11/16;C07C5
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 刘国平;顾映芬
地址: 100728 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 原子 纳米 材料 及其 制备 方法 应用 以及 氧化 脱氢 反应
【权利要求书】:

1.一种含杂原子纳米碳材料,该含杂原子纳米碳材料含有氧元素、磷元素、氢元素和碳元素,以该含杂原子纳米碳材料的总量为基准,以元素计,所述氧元素的含量为3-9重量%,所述磷元素的含量为0.1-4重量%,所述氢元素的含量为0.1-3重量%,所述碳元素的含量为84-96.8重量%;该含杂原子纳米碳材料中过氧基团的浓度为0.1×10-6mol/g至3×10-6mol/g。

2.根据权利要求1所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料中过氧基团的浓度为0.2×10-6mol/g至2.8×10-6mol/g。

3.根据权利要求2所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料中过氧基团的浓度为0.3×10-6mol/g至2.5×10-6mol/g。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,以由X射线光电子能谱确定的该含杂原子纳米碳材料表面元素的总量为基准,由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量为0.1-3摩尔%。

5.根据权利要求4所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,以由X射线光电子能谱确定的该含杂原子纳米碳材料表面元素的总量为基准,由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量为0.3-2.8摩尔%。

6.根据权利要求5所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,以由X射线光电子能谱确定的该含杂原子纳米碳材料表面元素的总量为基准,由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量为0.4-2.7摩尔%。

7.根据权利要求6所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,以由X射线光电子能谱确定的该含杂原子纳米碳材料表面元素的总量为基准,由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量为0.5-2.5摩尔%。

8.根据权利要求1-3中任意一项所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,由对应于C-O基团的谱峰确定的氧元素的含量与由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量的摩尔比值为大于1。

9.根据权利要求8所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,由对应于C-O基团的谱峰确定的氧元素的含量与由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量的摩尔比值为2-10:1。

10.根据权利要求9所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,由对应于C-O基团的谱峰确定的氧元素的含量与由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量的摩尔比值为2-8:1。

11.根据权利要求10所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,由对应于C-O基团的谱峰确定的氧元素的含量与由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量的摩尔比值为2.1-6:1。

12.根据权利要求1-3中任意一项所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量与由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量的摩尔比值为0.1-1:1。

13.根据权利要求12所述的含杂原子纳米碳材料,其中,该含杂原子纳米碳材料的X射线光电子能谱图谱中,由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量与由对应于基团的谱峰确定的氧元素的含量的摩尔比值为0.1-0.8:1。

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