[发明专利]超级电容含浸方法在审

专利信息
申请号: 201710623257.6 申请日: 2017-07-27
公开(公告)号: CN107393731A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 李勇;张中方;陈章盛 申请(专利权)人: 李勇;张中方;陈章盛
主分类号: H01G11/84 分类号: H01G11/84
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 超级 电容 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于电容器制造技术领域,具体涉及超级电容含浸方法。

背景技术

含浸加工处理是通过技术手段将含浸介质渗入到需要含浸的零件中,使零件达到一定的特殊作用。现有电容器的芯包含浸大多是直接将芯包放入装有含浸液体的容器里通过长时间的浸泡,使含浸液体渗透到正箔、负箔、纸中,这种方式的浸泡生产效率低,浸泡时间长,含浸效果不理想,生产成本高。在电容含浸工艺中,需将浸入电解液的电容半成品去除沾在表面过多的电解液,传统做法是脱液与含浸在一起即含浸完成后将液体排干后脱液篮高速转动脱液,在此过程中装料卸料均为人工,不仅在搬运过程中会损坏物料,而且在脱液过程中物料处于自由状态,容易因发生碰撞摩擦而损坏物料,而且甩干后的液体不能重复使用,对环境造成一定污染;目前还有一种方式是采用点注,即用专用注射器将电解液注入芯子,这种方式生产效率低,劳动强度大。

发明内容

本发明的目的在于提供超级电容含浸方法,以解决上述背景技术中所提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供以下技术方案:超级电容含浸方法,其结构要点在于:包括以下步骤,

1)将数个阵列排序的芯包放置在含浸炉内的伸缩架中;

2)将含浸物质放置在伸缩架的下方;

3)密封含浸炉,并通过真空泵将含浸炉的真空度降至0.1~1×10-4MPa,真空度稳定后,保持30-50min;

4)升高含浸炉的温度,然后将伸缩架置于含浸物质中;

5)开启超声设备,超声时间为10-30min;

6)关闭超声设备,将伸缩架升起,使伸缩架离开含浸物质;

7)除去芯包表面的含浸物质;

8)将含浸炉内气压恢复至常压,同时降低含浸炉的温度至室温;

9)取出芯包,完成含浸过程。

作为优选的,伸缩架由聚四氟乙烯制成。

作为优选的,伸缩架为网状结构,其中伸缩架内设有伸缩杆和壳体,且伸缩杆上连有电动开关,壳体设有数个与芯包适配的容纳腔。

作为优选的,伸缩杆和壳体通过转轴活动连接,且转轴上连有电机。

作为优选的,含浸物质在室温下为固态,在高温下为液态。

作为优选的,含浸物质为热熔胶。

作为优选的,步骤4)所需升高的温度为130-300℃。

作为优选的,步骤5)中伸缩架在电动开关的控制下在竖直方向上保持匀速地往复运动,且往复运动中壳体保持在含浸物质中。

与现有技术相比,本发明设计合理,结构简单,操作方便,含浸效率高,成本低廉,环保无污染。

附图说明电机

图1为本发明的结构示意图;

图中:1-芯包,2-含浸炉,3-伸缩架,4-含浸物质,5-真空泵,6-超声设备,7-伸缩杆,8-壳体,9-电动开关,10-容纳腔,11-转轴,12-电机。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步的解释说明,但不限制本发明的保护范围。

在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

请参阅图1,本发明提供一种技术方案,超级电容含浸方法,包括以下步骤,

1)将数个阵列排序的芯包1放置在含浸炉2内的伸缩架3中;

2)将含浸物质4放置在伸缩架3的下方;

3)密封含浸炉2,并通过真空泵5将含浸炉2的真空度降至0.1~1×10-4MPa,真空度稳定后,保持30-50min;

4)升高含浸炉2的温度,然后将伸缩架3置于含浸物质4中;

5)开启超声设备6,超声时间为10-30min;

6)关闭超声设备6,将伸缩架3升起,使伸缩架3离开含浸物质4;

7)除去芯包1表面的含浸物质4;

8)将含浸炉2内气压恢复至常压,同时降低含浸炉2的温度至室温;

9)取出芯包1,完成含浸过程。

其中,在本实施例中,所述的伸缩架3由聚四氟乙烯制成。

其中,在本实施例中,所述的伸缩架3为网状结构,其中伸缩架3内设有伸缩杆7和壳体8,且伸缩杆7上连有电动开关9,壳体8设有数个与芯包1适配的容纳腔10。

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