[发明专利]扫描型显微镜

说明书

本发明提供一种扫描型显微镜。在扫描型显微镜中，设定降低试样上的污染物的影响的条件。扫描型显微镜，包括：带电粒子束源，其输出要照射到试样的带电粒子束；检测器，其检测来自上述试样的带电粒子；以及控制器，其对上述带电粒子束源以及上述检测器进行控制，上述控制器进行如下动作：使1个以上的可变参数发生变化，来决定多个不同的参数值集合；分别取得上述多个不同的参数值集合下的、对象试样材料的吸收电流的时间变化的测定结果；以及根据上述测定结果，从上述多个不同的参数值集合中选择要使用于对象试样的测定的参数值集合。

技术领域

本发明涉及一种扫描型显微镜。

背景技术

在半导体等电子领域，装置尺寸趋于逐年减小，获得最表面的信息变得重要。作为观察最表面的方法之一，列举了扫描电子显微镜(SEM)。SEM是扫描一次带电粒子束，检测从试样放射的信号带电粒子，并以检测出的信号带电粒子的信号形成图像的带电粒子束装置，尤其一次带电粒子束和信号带电粒子均为电子。

SEM具有比光学显微镜高的空间分辨率，但以一次带电粒子束对试样最表面扫描预定时间时，有时表面变暗，或图像变得模糊。这是因为表面附着数nm的污染物而产生的现象，成为观察的障碍。

避免污染物的附着的方法之一是将试样室设为高真空(例如10^-10torr程度)。另一种方法是用等离子清洗机去除附着的污染物。

专利文献1中公开了“作为消除由电子照射密度的不均匀所引起的带电不均匀的手段，使照射的电子与试样相对移动，进行电子照射密度的平均化。此外，作为实时监视试样表面的带电的手段，测定流入到试样的吸收电流、从试样放射的二次电子以及反射电子的数量。”(摘要)。

将试样室设为高真空(例如10^-10torr程度)的现有方法，需要大规模的真空装置、气体导入装置。去除附着于试样表面的污染物的现有方法，有可能破坏观察对象(测定对象)即试样的表面状态。专利文献1中仅公开了监视带电状态的方法，而没有公开和启示降低污染物对观察图像或测定数据的影响。

专利文献1：日本特开2006-234789号公报

发明内容

本发明的代表性的一例为扫描型显微镜，包括：带电粒子束源，其输出要照射到试样的带电粒子束；检测器，其检测来自上述试样的带电粒子；以及控制器，其对上述带电粒子束源以及上述检测器进行控制，上述控制器使1个以上的可变参数发生变化来决定多个不同的参数值集合，取得上述多个不同的参数值集合的各个参数值集合下的、对象试样材料的吸收电流的时间变化的测定结果，根据上述测定结果，从上述多个不同的参数值集合中选择要使用于对象试样的测定的参数值集合。

根据本发明的一种方式，在扫描型显微镜中，能够设定降低试样上的污染物的影响的条件。

附图说明

图1表示扫描型电子显微镜的整体结构例。

图2表示吸收电流与试样上的污染物的状态的关系例。

图3表示用于决定扫描显微镜的一次电子束照射条件(观察条件)的流程图。

图4表示用户终端所显示的、信息已登记在数据库中的材料的列表的GUI图像例。

图5表示数据库的结构例。

图6A表示用于决定观察条件的GUI图像例。

图6B表示用于决定观察条件的GUI图像例。

图6C表示用于决定观察条件的GUI图像例。

图6D表示用于决定观察条件的GUI图像例。

符号说明