[发明专利]一种硅片镀镍银的工艺

权利要求书

1.一种硅片镀镍银的工艺，其特征在于：包括以下步骤：

预处理：去除表面氧化层，使硅片表面原子活化；所述硅片表面清洗包括以下步骤：

超声溢流清洗：硅片在水槽中进行超声溢流清洗，去除硅片表面的污垢；

氢氟酸溶液清洗：氢氟酸溶液对硅片表面进行清洗，去除硅片表面氧化层；其中，所述氢氟酸溶液的浓度为2％-10％，所述清洗时间为10-30min；

纯水进行清洗，清除多余的氢氟酸溶液；

一次镀镍：在硅片表面镀一次镍；

所述一次镀镍步骤，是在PH值为7-10的碱性环境下，调节温度到60-100℃，将硅片浸泡于镀镍液中进行一次镀镍；

镍烧结：镍原子向硅片内部扩散，镍层与硅层相互结合；所述镍烧结步骤，在温度为500-650℃的温度下对硅片进行烧结，镍烧结时间为30-60min；

二次镀镍：在硅片表面镀二次镍；

所述二次镀镍是在PH值为7-10的碱性环境下，调节温度到60-100℃，将硅片浸泡于镀镍液中进行二次镀镍；其中，所述镀镍液为氯化镍或者硝酸镍；

镀银；在硅片表面镀银，所述镀银步骤，是在酸性条件下，温度调节到60-100℃，将硅片浸泡于镀银液中进行镀银；所述镍烧结步骤与所述二次镀镍步骤之间还包括：

硝酸清洗：用硝酸对硅片进行清洗，去除表面被高温氧化部分，所述硝酸的浓度为97％以上；

活化：用活化液浸泡硅片，使硅片表面原子活化，所述活化液为含有氯化金的活化液，浸泡时间为30～90s；

纯水清洗，清除多余的所述活化液。

2.根据权利要求1所述的一种硅片镀镍银的工艺，其特征在于：所述镀银液主要成分为硝酸银。

3.根据权利要求1所述的一种硅片镀镍银的工艺，其特征在于：所述二次镀镍步骤与所述镀银步骤之间还包括以下步骤：

盐酸清洗，清洗中和硅片表面碱性残留；

纯水清洗，清除多余的盐酸残留。