[发明专利]一种真空用工件高速旋转装置

说明书

本发明涉及到旋转装置技术领域，尤其涉及一种真空用工件高速旋转装置。该真空用工件高速旋转装置，包括磁流体密封装置一、电机、电机安装板、支撑杆、磁流体密封装置二、安装法兰、传动轴、晶控探头和隔板。本发明设计了一种真空用工件高速旋转装置采用磁流体密封装置一和磁流体密封装置二双磁流体密封直驱方式，使镀膜过程中的工件转速达到200转每分钟，将光学膜厚监控系统采样频率提高10倍。采用此种装置后，膜厚均匀性较市场现有技术水平提高了一个数量级，可用于镀制高质量多层膜。总之，该真空用工件高速旋转装置结构设计合理，镀膜更加精准，适合推广使用。

技术领域

本发明涉及到旋转装置技术领域，尤其涉及一种真空用工件高速旋转装置。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。常见的镀膜机中，转速在20转每分钟左右，光学监控采样频率比较低，镀膜过程中膜厚监控精度差，所镀制的高质量多层膜的膜厚均匀性比较差。

为了解决上述技术问题，本发明设计了一种真空用工件高速旋转装置，该真空用工件高速旋转装置采用磁流体密封装置一和磁流体密封装置二双磁流体密封直驱方式，使镀膜过程中的工件转速达到200转每分钟，将光学膜厚监控系统采样频率提高10倍。采用此种装置后，膜厚均匀性较市场现有技术水平提高了一个数量级，可用于镀制高质量多层膜。总之，该真空用工件高速旋转装置结构设计合理，镀膜更加精准，适合推广使用。

发明内容

为了克服背景技术中存在的缺陷，本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种真空用工件高速旋转装置，包括磁流体密封装置一、电机、电机安装板、支撑杆、磁流体密封装置二、安装法兰、传动轴、晶控探头和隔板，所述安装法兰固定在隔板上，所述隔板的上部为大气侧，所述隔板的下部为真空侧，所述电机安装板通过支撑杆固定在安装法兰上，所述电机安装板上设有电机和传动轴，所述传动轴从安装法兰和隔板内穿过，所述传动轴的底部设有晶控探头，所述晶控探头位于真空侧内，所述传动轴的中部外侧紧贴着安装法兰设有磁流体密封装置二，所述传动轴的上部外侧设有磁流体密封装置一。

优选的所述磁流体密封装置一上设有晶控探头安装法兰。

本发明设计了一种真空用工件高速旋转装置，该真空用工件高速旋转装置采用磁流体密封装置一和磁流体密封装置二双磁流体密封直驱方式，使镀膜过程中的工件转速达到200转每分钟，将光学膜厚监控系统采样频率提高10倍。采用此种装置后，膜厚均匀性较市场现有技术水平提高了一个数量级，可用于镀制高质量多层膜。总之，该真空用工件高速旋转装置结构设计合理，镀膜更加精准，适合推广使用。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明一种真空用工件高速旋转装置的结构示意图；

其中:1、晶控探头安装法兰；2、磁流体密封装置一；3、电机；4、电机安装板；5、支撑杆；6、磁流体密封装置二；7、安装法兰；8、传动轴；9、晶控探头；10、隔板。

具体实施方式

现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。附图为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。