[发明专利]圆筒形溅射靶在审

专利信息
申请号: 201710599096.1 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN107829073A 公开(公告)日: 2018-03-23
发明(设计)人: 石田新太郎;久保田高史 申请(专利权)人: 三井金属矿业株式会社
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 圆筒 溅射
【权利要求书】:

1.一种圆筒形溅射靶,其具有多个圆筒形溅射靶材,

其中,所述溅射靶材沿着它们的轴线方向串联配置,

沿着轴线方向相邻的两个所述溅射靶材是所述溅射靶材的相对置的端面彼此呈互补形状,

所述端面呈不具有与所述溅射靶材的轴线正交的平面的形状。

2.根据权利要求1所述的圆筒形溅射靶,其中,所述溅射靶材的端面呈在从该端面上的任意一点沿周缘绕一周进行侧视时的轨迹中具有至少一处最高位置和至少一处最低位置的形状。

3.根据权利要求1所述的圆筒形溅射靶,其中,所述端面呈位于与所述轴线以除了90度以外的角度交叉的平面P1内的形状。

4.根据权利要求3所述的圆筒形溅射靶,其中,和轴线正交的面Pxy与平面P1交叉的角度θ为4度~20度。

5.根据权利要求1所述的圆筒形溅射靶,其中,所述溅射靶材的外径为145mm~160mm,

在沿着轴线方向相邻的两个所述溅射靶材之间具有分离部,该分离部的沿着轴线方向的长度为0.05mm~0.6mm。

6.根据权利要求1所述的圆筒形溅射靶,其中,所述溅射靶材为陶瓷制。

7.根据权利要求1所述的圆筒形溅射靶,其中,所述溅射靶材为包含选自In、Ga、Zn、Sn和Al中的至少一种元素的氧化物的陶瓷制。

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