[发明专利]圆筒形溅射靶

说明书

技术领域

本发明涉及圆筒形溅射靶。

背景技术

就磁控管型旋转阴极溅射装置来说，其是在圆筒形靶的内侧具有磁场产生装置并且一边从靶的内侧进行冷却一边在使靶旋转的同时进行溅射的装置。通过磁控管型旋转阴极溅射装置，靶材的整个面发生侵蚀而被均匀地磨损。因此，用旋转阴极溅射装置可以得到70％以上这样的特别高的使用效率。平板型磁控管溅射装置的使用效率为比此低非常多的20～30％。此外，就旋转阴极溅射装置来说，其能够通过使靶旋转来投入比现有的平板型磁控管溅射装置更大的每单位面积的功率，因此可以获得高成膜速度。

当这样的旋转阴极溅射方式中使用圆筒形靶时，该圆筒形靶与现有的平板型溅射靶同样地是使多个靶材在长度方向接合而构成的。就圆筒形靶材彼此的间隙(以下也称为“分离部”)来说，其也与平板型溅射靶的情况同样地为0.05mm～0.5mm左右。平板型溅射靶存在从分离部产生的被称为粒子(particle)的垃圾使膜质变差这样的问题，作为其对策而使靶材增大来减小分离部。但是，当溅射靶材为陶瓷制时该靶材容易破裂，而且在溅射靶正在大型化的现状下难以完全消除分离部。圆筒形靶也同样地存在由于分离部的粒子的影响而使膜质变差这样的问题。

从分离部产生的粒子还有时是由于基底的连接器(bonder)被溅射而产生的，但据认为：电荷集中于分离部的相对置的靶材的边缘而引发火花，由此而产生粒子的原因更大。

专利文献1公开了下述方法：就圆筒形溅射靶材的接合部，通过在背衬管(backing tube)的附近向接合面的靶材的厚度方向倾斜，以使连接器不被溅射来改善膜质。但是，以该方法无法抑制由分离部引发火花。此外，在由于溅射使靶材被消耗到了倾斜部的情况下，倾斜部的边缘部分呈锐角，更容易引发火花而使膜质变差。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-241646号公报

发明内容

因此，本发明的问题在于：就将多个溅射靶材接合而成的圆筒形溅射靶，对由溅射得到的膜的成品率进行改善。

本发明提供一种圆筒形溅射靶，其是具有多个圆筒形溅射靶材的圆筒形溅射靶，

其中，上述溅射靶材沿着它们的轴线方向串联配置，

沿着轴线方向相邻的两个上述溅射靶材是上述溅射靶材的相对置的端面彼此呈互补形状，

上述端面呈不具有与上述溅射靶材的轴线正交的平面的形状，由此解决了上述问题。

附图说明

图1是表示本发明的溅射靶的一个实施方式的立体图。

图2是图1所示的溅射靶的主要部分放大侧视图。

图3是图1所示的溅射靶中的靶材的立体图。

图4是图1所示的溅射靶中的靶材的立体图，其是对端面的状态进行说明的图。

图5是图1所示的溅射靶中的靶材的侧视图。

图6(a)是本发明的溅射靶中的靶材的另一实施方式的立体图；图6(b)是图6(a)的侧视图。

图7是本发明的溅射靶中的靶材的另一实施方式的侧视图(对应于图6(b)的图)。

图8是本发明的溅射靶中的靶材的另一实施方式的立体图(对应于图3的图)。

具体实施方式

以下，对本发明根据其优选实施方式进行说明。本发明涉及圆筒形溅射靶。图1示出了本发明的溅射靶的一个实施方式的立体图。该图所示的圆筒形溅射靶10与平板型溅射靶同样地是多个靶材20沿着轴线A方向串联配置而构成的。沿着轴线A方向相邻的两个靶材20是靶材20的相对置的端面彼此呈互补形状。

如图2所示，在沿着轴线A方向相邻的两个靶材20彼此之间，形成了作为空隙的分离部30。

如图3所示，靶材20是与轴线A方向正交的剖面形状呈正圆的圆环状。在进行溅射的情况下，以靶材20的圆环形的中心为轴，并使靶10向一个方向旋转。靶材20的端面21具有最高位置21a和最低位置21b。就端面21来说，最高位置21a仅在一处，并且最低位置21b也仅在一处。这里所说的“最高”和“最低”是就沿着轴线A从固定的方向观察时的高度而言的。

以往，在使用多个圆筒形靶材的情况下，靶材彼此的接合部通常与旋转轴正交。但是，接合部与旋转轴正交会导致在溅射中经常是分离部存在于相同位置。由此，如上所述，变得容易从分离部附近产生粒子，所得到的膜的品质容易局部地变差。该现象对于使用了多个平板型靶材的情况来说也是相同的。