[发明专利]有机发光显示面板及其制备方法、有机发光显示装置

说明书

本发明描述了一种有机发光显示面板，包含：阵列基板；设置在所述阵列基板上的有机发光器件，所述有机发光器件包含反射层、像素定义层、设置在所述像素定义层之间的发光像素层、设置在所述发光像素层背离所述反射层一侧的阴极层，以及设置在至少一相邻所述发光像素层之间的支撑层，所述支撑层包含金属层以及位于所述金属层背离所述阵列基板一侧的环形有机层；封装层，所述封装层包含至少一有机封装层和至少一无机封装层，且所述封装层覆盖所述有机发光器件。本发明中的支撑层包含环形有机层与现有技术相比，支撑层与掩膜版的接触面积大大减小，可减少掩膜版的脏污，减少封装层因脏污、颗粒物等引起的暗斑不良。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种有机发光显示面板、包含该有机发光显示面板的显示装置，以及该有机发光显示面板的制造方法。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示面板制造技术也趋于成熟，现有的显示面板主要包括有机发光显示面板(Organic Light Emitting Diode，OLED)、液晶显示面板(LiquidCrystal Display，LCD)、等离子显示面板(Plasma Display Panel，PDP)等。作为自发光显示装置的有机发光显示装置不需要独立的光源。因此，有机发光显示装置能够在低电压下操作，重量轻而薄，并且提供诸如宽视角、高对比度和快速响应的高品质特性。因此，作为下一代显示装置的有机发光显示装置已经受到了关注。

如图1所示，图1为现有的一种有机发光显示面板100’的截面结构示意图。包含阵列基板10’、发光器件20’、封装层30’。图2是现有技术的一种有机发光显示面板有机发光器件的俯视结构示意图，其中，发光器件20’包含像素定义层24’、发光层22’以及支撑层40’，像素定义层将发光层区隔为发光像素层(R/G/B)，以及支撑层40’设置在相邻发光像素层之间的像素定义层上，在蒸镀发光层时顶住蒸镀掩膜版。图3为现有技术的一种像素定义层的结构示意图。如图3所示，现有技术中，支撑层的上表面为实心的表面，支撑层与掩膜版的接触面积较大，会对蒸镀掩膜版造成污染，颗粒物增多。然而，目前柔性显示的封装层大都采用薄膜封装，这对于对于柔性的薄膜封装会增加封装层20’的层数，不利于柔性屏幕的弯折。另外，现有技术的支撑层的高度较高，在蒸镀发光层22’时造成较大的外扩效应，会容易产生混色。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种有机发光显示面板、包含该有机发光显示面板的显示装置以及该有机发光显示面板的制造方法。

第一方面，本发明提供了一种有机发光显示面板，包括：

阵列基板；

设置在所述阵列基板上的有机发光器件，所述有机发光器件包含反射层、像素定义层、设置在所述像素定义层之间的发光像素层、设置在所述发光像素层背离所述反射层一侧的阴极层，以及设置在至少一相邻所述发光像素层之间的支撑层，所述支撑层包含金属层以及位于所述金属层背离所述阵列基板一侧的环形有机层；

封装层，所述封装层包含至少一有机封装层和至少一无机封装层，且所述封装层覆盖所述有机发光器件。

第二方面，本发明还提供了一种有机发光显示装置，包括第一方面所述的有机发光显示面板。

第三方面，本发明还提供一种有机发光显示面板的制备方法，包括：

制备阵列基板；

制备有机发光器件，制备所述有机发光器件包含在所述阵列基板上依次制备反射层、像素定义层、在所述像素定义层之间形成发光像素层、以及在所述发光像素层上形成阴极层，其中，在制备所述反射层时，在至少一相邻发光像素层之间形成金属层，以及在制备所述像素定义层时，在所述金属层上形成环形有机层，所述金属层和所述环形有机层形成支撑层；

在所述有机发光器件背离所述阵列基板的一侧形成封装层。