[发明专利]有机发光显示面板及其制备方法、有机发光显示装置

权利要求书

1.一种有机发光显示面板，其特征在于，包含：

阵列基板；

设置在所述阵列基板上的有机发光器件，所述有机发光器件包含反射层、像素定义层、设置在所述像素定义层之间的发光像素层、设置在所述发光像素层背离所述反射层一侧的阴极层，以及设置在至少一相邻所述发光像素层之间的支撑层，所述支撑层包含金属层以及位于所述金属层背离所述阵列基板一侧的环形有机层；

封装层，所述封装层包含至少一有机封装层和至少一无机封装层，且所述封装层覆盖所述有机发光器件。

2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述金属层和所述反射层采用同一膜层制备，所述环形有机层和所述像素定义层采用同一膜层制备。

3.根据权利要求2所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述金属层的朝向所述阵列基板方向的俯视图的形状包含圆形、椭圆形、多边形中的至少一种或者其任意组合。

4.根据权利要求2所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述支撑层的高度比所述像素定义层的高度高0.3μm～1.2μm。

5.根据权利要求4所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述环形有机层中有机层的宽度为0.2μm～1μm。

6.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述阵列基板包含衬底基板、位于所述衬底基板上的阵列层以及位于所述阵列层背离所述衬底基板一侧的平坦化层。

7.根据权利要求6所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述衬底基板为柔性衬底。

8.一种有机发光显示装置，其特征在于，包含权利要求1-7任意一项所述的有机发光显示面板。

9.一种有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，

制备阵列基板；

制备有机发光器件，制备所述有机发光器件包含在所述阵列基板上依次制备反射层、像素定义层、在所述像素定义层之间形成发光像素层、以及在所述发光像素层上形成阴极层，其中，在制备所述反射层时，在至少一相邻发光像素层之间形成金属层，以及在制备所述像素定义层时，在所述金属层上形成环形有机层，所述金属层和所述环形有机层形成支撑层；

在所述有机发光器件背离所述阵列基板的一侧制备封装层。

10.根据权利要求9所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，采用环形掩膜版和所述金属层进行套合形成所述环形有机层，其中，所述环形掩膜版包含第一掩膜版和围绕所述第一掩膜版的第二掩膜版。

11.根据权利要求10所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述环形掩膜版和所述金属层进行套合，且所述第一掩膜版和所述金属层的重叠宽度为0μm～0.5μm。

12.根据权利要求11所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一掩膜版和所述金属层的重叠宽度为0μm。

13.根据权利要求11所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版之间的镂空区域的宽度为0.5μm～1.5μm。

14.根据权利要求9所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述金属层的俯视图的形状包含圆形、椭圆形、多边形中的至少一种或者其任意组合。

15.根据权利要求9所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述支撑层的高度比所述像素定义层的高度高0.3μm～1.2μm。

16.根据权利要求9所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述环形有机层中有机层的宽度为0.2μm～1μm。