[发明专利]减压干燥设备及减压干燥方法

说明书

本发明提供一种减压干燥设备及减压干燥方法。该设备包括：工作腔、工作台、抽气孔、进气孔、以及进气孔阀门，所述工作台设于所述工作腔内，所述工作台的四角分别设有一抽气孔，对应每一个抽气孔均设有至少一个与该抽气孔相邻的进气孔，每一个进气孔上均设有一进气孔阀门，通过在所述抽气孔抽气的同时由所述进气孔在所述抽气孔的周边通入保护气，减少所述抽气孔从基板的边缘抽离挥发后的光刻胶溶剂的速度，从而提升光刻胶溶剂挥发的均一性，避免因光刻胶溶剂挥发不均匀影响显影制程的线宽，保证显影制程的线宽的均匀性。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种减压干燥设备及减压干燥方法。

背景技术

随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)和有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Display，OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。

无论是液晶显示器还是有机发光二极管显示器在制作过程中都经常用到光刻工序，其目的是使玻璃基板上的金属或非金属膜层在依次经过光刻胶涂布、掩膜曝光、显影和刻蚀工序之后在其相应的位置不受到损害，从而达到在玻璃基板上形成图案的目的。光刻胶涂布是光刻制程中的一个重要工序，为保证光刻胶的流动性和涂布性能，光刻胶中80％左右为挥发性的溶剂，在涂布之后还必须进行溶剂去除的步骤，目前溶剂去除主要采用先减压干燥再加热烘烤相结合的方式进行的。其中，减压干燥可通过减压去除光刻胶中的挥发溶剂，使得光刻胶的流动性减弱，能够均匀的分布在基板上。

请参阅图1和图2，在减压干燥过程中，为避免在抽气时吸附到减压干燥腔100(VCDchamber)内的杂质(Particle)，同时保证抽气效果，减压干燥设备抽气的真空孔200既不能放在比基板300高的位置，又不放在基板300底下，只能放在基板300边缘比基板300略低的位置。但将真空孔200放在基板300的边缘进行抽气时，基板300的边缘靠近真空孔200，抽气速度快，基板300的中间远离真空孔200，抽气速度慢，基板300的边缘的抽气速度和基板300的中间的抽气速度的不一致又会导致基板300的边缘和基板300的中间的溶剂含量不一致，进行宏观检查时就会发现基板300的边缘和基板300的中间的颜色有差别，产生减压干燥不良(VCD Mura)，同时在进行后续显影制程时，由于基板300的边缘和基板300的中间的溶剂含量不一致，又会导致基板300的边缘线宽(Critical Dimesion，CD)小，基板300的中间线宽大，线宽均匀性(CD Uniformity)变差。

发明内容

本发明的目的在于提供一种减压干燥设备，能够提升光刻胶溶剂挥发的均一性，保证显影制程的线宽的均匀性。

本发明的目的还在于提供一种减压干燥方法，能够提升光刻胶溶剂挥发的均一性，保证显影制程的线宽的均匀性。

为实现上述目的，本发明提供了一种减压干燥设备，包括：工作腔、工作台、抽气孔、进气孔、以及进气孔阀门；

所述工作台设于所述工作腔内，所述工作台的四角分别设有一抽气孔，对应每一个抽气孔均设有至少一个与该抽气孔相邻的进气孔，每一个进气孔上均设有一进气孔阀门；

所述工作台用于放置待干燥的基板，所述抽气孔所在的平面高于所述工作台的上表面且低于所述基板的上表面；

所述抽气孔用于对所述工作腔进行抽气降压，所述进气孔用于向所述工作腔通入保护气，所述进气孔阀门用于控制各个进气孔的进气流量。

对应每一个抽气孔均设有与该抽气孔相邻的至少两个进气孔，所述至少两个进气孔与其所对应的抽气孔之间的距离不同。