[发明专利]金属掩膜板的制备方法

权利要求书

1.一种金属掩膜板的制备方法，所述金属掩膜板用于显示技术领域，其特征在于，所述制备方法包括：

基板预处理；

先在所述基板上沉积金属材料形成金属材料层；

然后使用激光干涉对沉积后的所述金属材料层进行图案化；

脱模，得到所述金属掩膜板。

2.根据权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

形成所述基板的材料包括玻璃、陶瓷、耐高温塑料中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

所述基板预处理包括:

除油：将所述基板先后浸渍于有机溶剂中5~10min，取出后用去离子水冲洗干净；其中，所述有机溶剂包括丙酮，乙醇；

化学刻蚀：将所述基板浸渍于氢氟酸和硝酸1:1~1:3体积比的混合溶液中刻蚀1~2min，取出后用去离子水冲洗干净；

敏化：将所述基板浸渍于0.01~0.05mol/L的氯化亚锡敏化液中5~10min，敏化温度30~45^oC，取出后用去离子水冲洗干净；

活化：将所述基板放入氯化钯活化剂中，活化温度为30~60^oC，取出之后用去离子水冲洗干净。

4.根据权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

所述基板的表面粗糙度为Ra，其中Ra≤0.2微米。

5.根据权利要求1-4中任一所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

所述沉积金属材料为化学镀金属材料；

所述金属材料为因瓦合金。

6.根据权利要求5所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

所述化学镀金属材料为化学镀因瓦合金，所述化学镀因瓦合金包括：

配置化学镀液：将5~10g/L硫酸亚铁，5~20g/L硫酸镍， 10~25g/L次磷酸二氢钠、30g/L柠檬酸三钠，5g/L十二烷基磺酸钠混合，用氢氧化钠溶液调节pH为12~13，调节所述化学镀液温度为40~60℃；

化学镀：将所述基板放入所述化学镀液中10-60min后取出所述基板。

7.根据权利要求6所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

所述金属掩膜板的制备方法还包括：

水洗和干燥：将化学镀后的所述基板用去离子水冲洗，用氮气吹干后在80^oC的真空烘箱中干燥；

退火：将待脱模的所述基板进行退火处理。

8.根据权利要求1所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，所述使用激光干涉对沉积后的所述金属材料层进行图案化，包括：

使用纳秒脉冲紫外固态激光系统，通过分束器将主激光光束分成至少两束子光束，所述子光束通过偏振镜引向待图案化所述金属材料层上，并发生干涉，所述金属材料层随即形成具有微米尺度的开口图形区域；所述金属材料层的开口图案为所述金属掩膜板的开口图案。

9.根据权利要求8所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

所述金属材料层为因瓦合金层，所述主激光束能量为0.2~1.0J/cm²。

10.根据权利要求9所述的金属掩膜板的制备方法，其特征在于，

所述开口的尺寸小于等于10微米，所述主激光束能量为0.3、0.4或0.7 J/cm²。

11.一种金属掩膜板的制备方法，所述金属掩膜板用于显示技术领域，其特征在于，所述制备方法包括：

基板预处理；

先使用激光干涉对所述基板进行图案化；

然后在图案化的所述基板上沉积金属材料形成金属材料层；

脱模，得到所述金属掩膜板。