[发明专利]提高铟砷/镓锑超晶格红外探测器材料截止波长的方法及铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格及其应用有效
申请号: | 201710563810.1 | 申请日: | 2017-07-12 |
公开(公告)号: | CN107393982B | 公开(公告)日: | 2023-06-27 |
发明(设计)人: | 曹耀辉;陈建桥 | 申请(专利权)人: | 秦皇岛博硕光电设备股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/0368;H01L31/111 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 赵俊宏 |
地址: | 066000 河北省秦*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 镓锑超 晶格 红外探测器 材料 截止 波长 方法 镓锑 及其 应用 | ||
1.一种提高铟砷/镓锑超晶格红外探测器材料截止波长的方法,其特征在于,通过增加所述铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格单胞中InSb层的应力,改变超晶格材料的能带结构,增加所述铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格红外探测器材料截止波长,InAs和GaSb的单位晶胞内部界面层是InSb层,在InSb界面层加入InSb层,来增加所述铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格中晶格的应力,通过在铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格中在晶胞与晶胞的界面加入GaAs层给单位晶胞加入反向应力,补偿由InSb层加入引起的单位晶胞的应力,且使得材料的结构是不对称的,使单位晶胞的静应力为0。
2.铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格,其特征在于,所述的铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格中单位晶胞内部InAs和GaSb的界面层是InSb层,在单位晶胞InAs和GaSb形成的界面层InSb层处增加InSb层的厚度,形成了单独的InSb层,单位晶胞结构为:InAs层、InSb层、GaSb层和GaAs层,InSb层在InAs层和GaSb层间,GaAs层在GaSb层外,GaAs层位于两个相邻晶胞的界面处,位于单位晶胞GaSb层外插入的所述的InSb层的厚度为InAs和GaSb形成的InSb界面层的1-3倍。
3.如权利要求2所述铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格,其特征在于,用于红外探测器超长波的探测。
4.如权利要求2所述铟砷/镓锑Ⅱ类超晶格,其特征在于,用于探测10微米以上的远红外光。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于秦皇岛博硕光电设备股份有限公司,未经秦皇岛博硕光电设备股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710563810.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的