[发明专利]一种蒸发源和蒸镀装置

说明书

本发明公开了一种蒸发源和蒸镀装置，属于半导体工艺设备领域。该蒸发源包括坩埚、加热丝、反射板和冷却装置，加热丝围绕坩埚设置，反射板围绕坩埚设置，冷却装置设置在反射板外，蒸发源还包括设置在反射板和冷却装置之间的温差发电片，通过在反射板和冷却装置之间设置温差发电片，由于反射板和冷却装置存在温差，因此温差发电片可以利用温差产生一定的电能，从而可以回收一部分能量，减少能量的浪费，提高了能量的利用率。

技术领域

本发明涉及半导体工艺设备领域，特别涉及一种蒸发源和蒸镀装置。

背景技术

蒸镀是将金属等材料加热至蒸发或升华，然后使形成的蒸汽在低温零件上析出，形成薄膜的一种工艺技术。这种工艺在半导体工艺中有着广泛的应用，例如可以用来制备OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)的电极等膜层。

在蒸镀工艺中，用于产生蒸汽的设备叫做蒸发源，蒸发源主要包括坩埚、加热丝、反射板和冷却装置，加热丝设置在坩埚的外壁上，用于对坩埚进行加热。反射板则围绕在加热丝外，用于将加热丝和坩埚向外辐射的热向坩埚反射，以减少热能的散失。冷却装置设置在反射板的外部，由于蒸镀过程中，坩埚和加热丝的温度很高，冷却装置可以避免热能散发到蒸发源外部，同时可以在结束蒸镀后对设备进行冷却。

在加热坩埚的过程中，只有一部分热能能够被反射板反射回坩埚进一步利用，而另一部分热能会传递到反射板外，被冷却装置吸收，能量的利用率较低。

发明内容

为了解决现有蒸发源能量的利用率较低的问题，本发明实施例提供了一种蒸发源和蒸镀装置。所述技术方案如下：

一方面，本发明实施例提供了一种蒸发源，所述蒸发源包括坩埚、加热丝、反射板和冷却装置，所述加热丝围绕所述坩埚设置，所述反射板围绕所述坩埚设置，所述冷却装置设置在所述反射板外，所述蒸发源还包括设置在所述反射板和所述冷却装置之间的温差发电片。

优选地，所述温差发电片包括平行相对设置的吸热板和导热板、以及设置在所述吸热板和所述导热板之间的发电结构。

进一步地，所述吸热板采用硅硼化物纳米材料制成。

优选地，所述导热板采用聚噻吩纳米纤维制成。

优选地，所述温差发电片与所述反射板的相互接触的表面上和/或所述温差发电片与所述冷却装置的相互接触的表面上对应设置有相互配合的凹形结构和凸形结构。

可选地，所述凹形结构和/或所述凸形结构阵列排布。

优选地，所述蒸发源还包括电能存储单元，所述电能存储单元与所述发电结构电连接。

进一步地，所述蒸发源还包括温度检测器，所述温度检测器用于检测所述坩埚的外壁的温度。

可选地，所述反射板上设置有通孔，所述温度检测器插装在所述通孔中。

另一方面，本发明实施例还提供了一种蒸镀装置，所述蒸镀装置包括前述任一种蒸发源。

本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：通过在反射板和冷却装置之间设置温差发电片，由于反射板和冷却装置存在温差，因此温差发电片可以利用温差产生一定的电能，从而可以回收一部分能量，减少能量的浪费，提高了能量的利用率，同时还能减少散发到蒸发源之外的热量，降低蒸镀腔内的温度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种蒸发源的结构示意图；