[发明专利]半导体存储装置有效
申请号: | 201710541259.0 | 申请日: | 2017-07-05 |
公开(公告)号: | CN107731826B | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 内海哲章 | 申请(专利权)人: | 东芝存储器株式会社 |
主分类号: | H01L27/11524 | 分类号: | H01L27/11524;H01L27/11551;H01L27/1157;H01L27/11578 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 路勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 存储 装置 | ||
1.一种半导体存储装置,包括:
半导体基板;
多个晶体管,形成于所述半导体基板的上表面,沿着与所述上表面平行的第1方向排列,所述排列的最小周期为第1周期;
积层体,设置于所述半导体基板上;
第1触点;
第2触点;及
第1配线,连接于所述第1触点与所述第2触点之间;且
所述积层体包括:
多片电极膜,沿着上下方向相互隔离地积层;
半导体构件,在所述多个晶体管的除正上方区域外的区域贯通所述多片电极膜;及
电荷累积构件,设置于所述半导体构件与所述多片电极膜的一片之间;
所述积层体中的配置于所述多个晶体管的正上方区域的第1部分的形状为在每个所述电极膜形成着阶面的阶梯状,
在所述第1部分,沿着所述第1方向设定两个第1区域及配置于所述两个第1区域间的第2区域,
在各所述第1区域配置着多个所述阶面,
在所述第2区域配置着一个所述阶面,
配置于所述第2区域的所述阶面的所述第1方向上的长度比所述第1周期长,
配置于所述第1区域的所述阶面的所述第1方向上的长度比所述第1周期短,
所述第1触点的下端在所述阶面连接于所述多片电极膜的一片,
所述第2触点贯通所述积层体,下端连接于所述晶体管的源极、漏极中的一个,
所述多个电极膜的一个被分割为沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列的多个带状部分,
在所述第1部分,所述第1触点连接于一部分所述带状部分。
2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中
所述第1触点配置于所述第1区域,所述第2触点配置于所述第2区域。
3.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述第1配线配置于所述积层体上。
4.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述第1配线连接于所述第1触点的上端及所述第2触点的上端。
5.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述第2区域设置着多个,
所述第1区域与所述第2区域沿着所述第1方向交替地配置。
6.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述第1部分的上表面在与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向上的任意的位置,沿着远离所述半导体构件的所述第1方向,中途不上升而阶段性地下降。
7.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述多个电极膜的一个被分割为沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列的多个带状部分,
所述多个带状部分连接于相同的所述晶体管。
8.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述积层体被分割为沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列的多个带状部分,
在所述第1部分,在所述带状部分间形成着狭缝,
所述晶体管配置于所述狭缝的正下方区域。
9.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述多个晶体管也沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列。
10.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述阶面也沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列。
11.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中
在所述第1部分,所述第1触点连接于相邻的多根所述带状部分,不连接于其他多根所述带状部分。
12.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中
所述第1触点及所述第2触点配置于所述第1方向上相同的位置。
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