[发明专利]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201710541259.0 申请日: 2017-07-05
公开(公告)号: CN107731826B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 内海哲章 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11551;H01L27/1157;H01L27/11578
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 路勇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种半导体存储装置,包括:

半导体基板;

多个晶体管,形成于所述半导体基板的上表面,沿着与所述上表面平行的第1方向排列,所述排列的最小周期为第1周期;

积层体,设置于所述半导体基板上;

第1触点;

第2触点;及

第1配线,连接于所述第1触点与所述第2触点之间;且

所述积层体包括:

多片电极膜,沿着上下方向相互隔离地积层;

半导体构件,在所述多个晶体管的除正上方区域外的区域贯通所述多片电极膜;及

电荷累积构件,设置于所述半导体构件与所述多片电极膜的一片之间;

所述积层体中的配置于所述多个晶体管的正上方区域的第1部分的形状为在每个所述电极膜形成着阶面的阶梯状,

在所述第1部分,沿着所述第1方向设定两个第1区域及配置于所述两个第1区域间的第2区域,

在各所述第1区域配置着多个所述阶面,

在所述第2区域配置着一个所述阶面,

配置于所述第2区域的所述阶面的所述第1方向上的长度比所述第1周期长,

配置于所述第1区域的所述阶面的所述第1方向上的长度比所述第1周期短,

所述第1触点的下端在所述阶面连接于所述多片电极膜的一片,

所述第2触点贯通所述积层体,下端连接于所述晶体管的源极、漏极中的一个,

所述多个电极膜的一个被分割为沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列的多个带状部分,

在所述第1部分,所述第1触点连接于一部分所述带状部分。

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

所述第1触点配置于所述第1区域,所述第2触点配置于所述第2区域。

3.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述第1配线配置于所述积层体上。

4.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述第1配线连接于所述第1触点的上端及所述第2触点的上端。

5.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述第2区域设置着多个,

所述第1区域与所述第2区域沿着所述第1方向交替地配置。

6.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述第1部分的上表面在与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向上的任意的位置,沿着远离所述半导体构件的所述第1方向,中途不上升而阶段性地下降。

7.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述多个电极膜的一个被分割为沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列的多个带状部分,

所述多个带状部分连接于相同的所述晶体管。

8.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述积层体被分割为沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列的多个带状部分,

在所述第1部分,在所述带状部分间形成着狭缝,

所述晶体管配置于所述狭缝的正下方区域。

9.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述多个晶体管也沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列。

10.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述阶面也沿着与所述上下方向及所述第1方向交叉的第2方向排列。

11.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

在所述第1部分,所述第1触点连接于相邻的多根所述带状部分,不连接于其他多根所述带状部分。

12.根据权利要求1或2所述的半导体存储装置,其中

所述第1触点及所述第2触点配置于所述第1方向上相同的位置。

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