[发明专利]管式PERC太阳能电池的修复工艺及制备工艺有效
申请号: | 201710532627.5 | 申请日: | 2017-07-03 |
公开(公告)号: | CN107331730B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 方结彬;夏利鹏;林纲正;赖俊文;何达能;陈刚 | 申请(专利权)人: | 浙江爱旭太阳能科技有限公司;广东爱旭科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/02;H01L21/268;H01L21/673;H01L21/677;H01L31/0216 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 胡枫 |
地址: | 322009 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | perc 太阳能电池 修复 工艺 制备 | ||
本发明公开了一种管式PERC太阳能电池的修复工艺,修复工艺设置在硅片退火之后,硅片背面镀膜之前,包括:(1)将退火后镀膜前停留时间超过4小时的半成品硅片置入修复炉,通入流量为5‑10slm的氮气实现自洁,氮气的通入时间为1‑5min;(2)通入流量为5‑20slm的氮气,用于吹扫硅片上的灰尘;(3)将修复炉从室温升温到500‑650℃,同时通入流量为1‑5slm的氮气;(4)将修复炉在500‑650℃恒温5‑30min,同时通入流量为5‑20slm的氮气。相应的,本发明还公开了一种管式PERC太阳能电池的制备工艺。采用本发明,解决半成品停留时间过长带来的效率下降问题,并提高EL良率。
技术领域
本发明涉及PERC太阳能电池领域,尤其涉及一种管式PERC太阳能电池的修复工艺,以及一种管式PERC太阳能电池的制备工艺。
背景技术
在制造过程中,各工序经常会出现工艺问题或者机器故障导致的宕机,会导致前道工序的半成品停留,在某些工序,半成品停留时间过长会影响到成品的性能。管式PERC电池的制造过程为:制绒,扩散,刻蚀,退火,背镀膜,正镀膜,激光,丝网印刷,烧结。发明人在实验中发现,退火后到背镀膜的间隔时间超过4小时,电池的转换效率会明显下降,而且,间隔时间越长,效率降幅越大,最大的效率降幅能达到0.2%以上。理论上,间隔时间越长,硅片会吸收空气中的水分,显著降低背面氧化铝镀膜的钝化效果。对于太阳能电池,0.2%是一个比较大的效率差距,提升效率0.2%,可以明显增加终端太阳能电站的发电量,也可以显著降低发电成本。
另外,如果退火到背镀膜的间隔时间越长,硅片上容易吸附空气中的粉尘,导致PERC电池的EL测试出现很多黑点和黑斑,影响电池的EL良率。
在生产管理方面,通过合理安排投料和生产、提高问题反馈和预警的及时性来减少半成品在退火后的停留时间,但是不能从根本上解决。
现有技术中,暂无发现在硅片退火之后,硅片背面镀膜之前增加一道工序,以解决退火后到背镀膜的间隔时间超过4小时导致的效率降低的问题。
现有的相关技术,退火处理多数是为了增强氧化铝的钝化效果,例如CN105810779 A公开的《一种PERC太阳能电池的制备方法》,背面沉积钝化叠层膜包括如下步骤:(1) 采用原子层沉积方法在硅片背面沉积Al2O3薄膜;(2) 将步骤( 1 )的硅片放入管式炉中进行预退火,退火温度为400~600℃,退火时间为5~20 min;然后在其上沉积SiO2薄膜,沉积温度为400~600℃,沉积时间为5~10min,SiO2薄膜的厚度为5~10nm;然后在上述SiO2薄膜上沉积SiNx薄膜,其薄膜厚度为70~170nm;沉积时间为5~30min;在沉积SiO2薄膜和SiNx薄膜的同时完成退火工艺。
另一方面,管式PECVD技术由于存在绕镀和划伤这一对互相制约的难题,外观良率和EL良率一直比较低,影响该技术的大规模量产。
管式PECVD镀膜设备是通过将硅片插入石墨舟,再将石墨舟送入石英管做镀膜沉积。石墨舟通过3个卡点将硅片固定在石墨舟壁上,硅片的一面与石墨舟壁接触,在硅片的另外一面上沉积膜层。为了保证镀膜的均匀性,硅片要贴紧石墨舟壁,因此,卡点槽的宽度设置较小,约为0.25mm。管式PECVD镀膜有两个缺点:1,在插片过程中,硅片会与石墨舟壁发生摩擦,导致硅片挨着石墨舟壁的一面产生划伤。2,在沉积过程中,由于硅片与石墨舟壁之间不可避免的存在缝隙,尤其是卡点处的缝隙较大,工艺气体会扩散到硅片的另一面,在另一面形成膜的沉积,即绕镀,卡点处的绕镀更加严重。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,提供一种管式PERC太阳能电池的修复工艺,解决半成品停留时间过长带来的效率下降问题,并提高EL良率。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的