[发明专利]盖板制作方法、盖板及终端在审
| 申请号: | 201710513120.5 | 申请日: | 2017-06-29 |
| 公开(公告)号: | CN107272959A | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
| 发明(设计)人: | 刘劲;李江涛 | 申请(专利权)人: | 上海传英信息技术有限公司 |
| 主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;C23C14/06;C23C14/24;C23C14/58 |
| 代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司31264 | 代理人: | 杨波 |
| 地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 盖板 制作方法 终端 | ||
1.一种盖板,其特征在于,所述盖板包括:盖板基材、类金刚石镀膜层及AF镀膜层;所述AF镀膜层位于所述盖板基材的一表面上,所述类金刚石镀膜层位于所述盖板基材与所述AF镀膜层之间。
2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述类金刚石镀膜层掺杂有预设元素。
3.根据权利要求2所述的盖板,其特征在于,所述预设元素为硅元素、氟元素、氮元素、磷元素、硼元素、碘元素或锗元素。
4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述类金刚石镀膜层采用真空蒸发离子辅助沉积生成。
5.根据权利要求4所述的盖板,其特征在于,所述类金刚石镀膜层的厚度为10μm到20μm。
6.根据权利要求5所述的盖板,其特征在于,所述AF镀膜层的厚度为10μm到20μm。
7.一种终端,其特征在于,所述终端包括如权利要求1至6中任一项所述的盖板。
8.一种盖板制作方法,其特征在于,包括:
提供一盖板基材作为基底层;
在所述基底层上沉积类金刚石镀膜层;
在所述类金刚石镀膜层上形成AF镀膜层。
9.根据权利要求8所述的盖板制作方法,其特征在于,所述类金刚石镀膜层采用真空蒸发离子辅助沉积生成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海传英信息技术有限公司,未经上海传英信息技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710513120.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种内嵌式触控OLED显示装置及其制作方法
- 下一篇:一种显示方法及显示系统





