[发明专利]一种硅溶胶抛光液及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及抛光液，特别涉及一种硅溶胶抛光液及其制备方法。

背景技术

抛光剂的作用是将被抛光工件表层凸起处去除，提高工件表面的平整度。例如，对半导体晶片进行抛光时，借助于外力，磨料将晶片表面经过化学反应生成的钝物质去除，加工出所需的平整性。目前常用抛光剂有二氧化硅胶体、氧化铝、氧化铈和纳米金刚石等悬浮抛光剂。目前国际上对铝合金抛光使用的悬浮抛光剂通常为纳米氧化铝液体，其硬度大，机械作用大，能保证较高的抛光速率，但是纳米氧化铝硬度大，很容易对铝或铝合金表面形成严重划伤，用其抛光后表面不易清洗，难以确保平整度。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种硅溶胶抛光液及其制备方法，解决了传统的铝合金抛光使用的悬浮抛光剂通常为纳米氧化铝液体，其硬度大，容易对铝或铝合金表面形成严重划伤，用其抛光后表面不易清洗，难以确保平整度的问题。

为实现上述目的，本发明提供以下的技术方案：一种硅溶胶抛光液的制备方法，其中，所述制备方法包括：将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合，并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液，其中，

相对于100重量份的硅溶胶，所述表面活性剂的用量为10-15重量份，所述钝化剂的用量为1-4重量份，所述缓蚀剂的用量为2-8重量份，所述磷酸的用量为10-20重量份，所述柠檬酸的用量为2-10重量份，所述草酸的用量为1-5重量份，所述氨水的用量为5-8重量份。

优选的，所述表面活性剂为辛基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和脂肪酸聚氧乙烯酯中的一种或多种。

优选的，所述缓蚀剂为铬酸钠、亚硝酸钠和硅酸钠中的一种或多种。

优选的，所述加热温度为30-45℃，加热时间为10-20min。

优选的，所述搅拌速度为800-1000r/min，搅拌时间为5-10min。

优选的，所述钝化剂的原料包括有磷钼酸铵、硬脂酸锌和过氧化氢。

本发明还提供了一种硅溶胶抛光液，所述硅溶胶抛光液由上述的制备方法制得。

有益效果：本发明提供了一种硅溶胶抛光液及其制备方法，其中，所述制备方法包括：将硅溶胶、表面活性剂、钝化剂、缓蚀剂、磷酸、柠檬酸、草酸和氨水混合，并加热搅拌形成所述硅溶胶抛光液，通过各原料之间的协同作用，使得制得的硅溶胶抛光液不会对铝或铝合金表面形成严重划伤，且容易清洗，同时用于制备该硅溶胶抛光液的方法简单、原料易得。

具体实施方式

下面详细说明本发明的优选实施方式。

实施例1

一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、10g表面活性剂、1g钝化剂、2g缓蚀剂、10g磷酸、2g柠檬酸、1g草酸和5g氨水混合，并加热（加热温度为30℃，加热时间为10min）搅拌（搅拌速度为800r/min，搅拌时间为5min）形成所述硅溶胶抛光液A1。

实施例2

一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、15g表面活性剂、4g钝化剂、8g缓蚀剂、20g磷酸、10g柠檬酸、5g草酸和8g氨水混合，并加热（加热温度为45℃，加热时间为20min）搅拌（搅拌速度为1000r/min，搅拌时间为10min）形成所述硅溶胶抛光液A2。

实施例3

一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、12g表面活性剂、2g钝化剂、5g缓蚀剂、15g磷酸、5g柠檬酸、2g草酸和6g氨水混合，并加热（加热温度为35℃，加热时间为15min）搅拌（搅拌速度为900r/min，搅拌时间为8min）形成所述硅溶胶抛光液A3。

对比例1

一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、5g表面活性剂、0.5g钝化剂、1g缓蚀剂、5g磷酸、1g柠檬酸、0.5g草酸和2g氨水混合，并加热（加热温度为30℃，加热时间为10min）搅拌（搅拌速度为800r/min，搅拌时间为5min）形成所述硅溶胶抛光液D1。

对比例2

一种硅溶胶抛光液的制备方法，所述制备方法包括：将100g硅溶胶、20g表面活性剂、6g钝化剂、10g缓蚀剂、25g磷酸、15g柠檬酸、10g草酸和10g氨水混合，并加热（加热温度为45℃，加热时间为20min）搅拌（搅拌速度为1000r/min，搅拌时间为10min）形成所述硅溶胶抛光液D2。

表1