[发明专利]基板处理装置和方法有效
申请号: | 201710498886.0 | 申请日: | 2017-06-26 |
公开(公告)号: | CN107529670B | 公开(公告)日: | 2020-08-25 |
发明(设计)人: | 金德植 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/66;H01L21/677;H01L21/68 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 赵丹;赵莎 |
地址: | 韩国忠淸南道天安*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
提供一种基板处理装置。基板处理装置包括:支撑单元,用于支撑基板;对准单元,用于将放置在支撑单元的基板对准在适当位置;传输单元,具有放置基板的机械手和位置传感器,并将基板传输到支撑单元,位置传感器用于测量机械手上基板的位置;和训练单元,用于设置传输单元的将基板传输到支撑单元上的传输位置,其中,训练单元包括:第一位置测量步骤,用于使用位置传感器测量放置在机械手上的基板的第一位置;基板安置步骤,用于将放置在机械手上的基板安置在支撑单元上;对准步骤,将放置在支撑单元上的基板对准在适当位置;基板拾取步骤,用于使用传输单元从支撑单元拾取放置在支撑单元上的基板;第二位置测量步骤,用于使用位置传感器测量放置在机械手上的基板的第二位置;偏移量确定步骤,用于确定第一位置和第二位置之间的差值;和位置校正步骤,用于基于差值校正传输单元的传输位置;依次进行以设置传输单元的传输位置。
技术领域
本公开涉及一种基板处理装置和方法。
背景技术
进行光刻、蚀刻、离子注入、沉积和清洗的各种工艺来制造半导体器件或液晶显示器。在该过程中,基板被从一个装置传输到另一个装置。传输过程中,基板的搬运可通过诸如传输机械手的传输单元来进行。
当传输单元将基板放置在支撑基板的支撑单元上时,进行训练操作(teachingoperation)以使基板位于正确位置。通常,这样的训练操作由操作者手动进行,操作者操作能够调整支撑传输单元中基板的机械手(hand)的位置的摇杆,通过将机械手的机械手位置设定为该机械手的正确位置,从而将机械手的位置定位在与正确位置相对应的位置上。然而,在这种情况下,存在如下问题:需要较长的操作时间,以及操作员可能会直接出现操作错误。
发明内容
本公开提供了一种可减少传输单元的训练操作时间的装置和方法。
本公开提供了一种可精确地训练传输单元的装置和方法。
本发明构思的目的不限于以上所述的效果。本领域技术人员将从下面的描述中了解本发明构思的其它目的。
在示例性实施例中,基板处理装置包括:支撑单元,用于支撑基板;对准单元,用于将放置在所述支撑单元的基板对准在适当位置;传输单元,所述传输单元具有放置基板的机械手和用于测量所述机械手上基板位置的位置传感器,并将所述基板传输到所述支撑单元;和训练单元,用于设置所述传输单元的将所述基板传输到所述支撑单元的传输位置,其中,所述训练单元包括:第一位置测量步骤,用于使用所述位置传感器测量放置在所述机械手上的基板的第一位置;基板安置步骤,用于将放置在所述机械手上的基板安置在所述支撑单元上;对准步骤,将放置在所述支撑单元上的基板对准在适当位置;基板拾取步骤,用于使用传输单元从所述支撑单元拾取放置在所述支撑单元上的基板;第二位置测量步骤,用于使用所述位置传感器测量放置在所述机械手上的基板的第二位置;偏移量确定步骤,用于确定所述第一位置和所述第二位置之间的差值;和位置校正步骤,用于基于所述差值校正所述传输单元的传输位置;以上步骤依次进行以设置传输单元的传输位置。
在示例性实施例中,所述对准单元包括对准突起,所述对准突起设置在所述支撑单元上,并在所述对准突起的内表面具有朝向位于所述支撑单元的基板的中心倾斜向下的倾斜面。
在示例性实施例中,多个对准突起被设置成彼此间隔开以围绕位于所述支撑单元上的基板。
在示例性实施例中,所述对准突起的内端设置为与位于所述支撑单元上的基板的侧边相接触或相邻。
在示例性实施例中,所述对准单元包括:基板旋转构件,用于旋转放置在所述支撑单元上的基板;移动构件,用于在水平方向上移动所述支撑单元;和长度测量传感器,用于测量旋转基板的从所述旋转基板的旋转中心到面向预定方向的所述旋转基板的端部的长度。
在示例性实施例中,所述训练单元控制所述移动构件移动所述支撑单元,使得所述基板根据所述对准步骤中由所述长度测量传感器测量的长度值来定位。
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