[发明专利]适用于双端SAR-ADC的DAC电容阵列及对应开关切换方法有效

专利信息
申请号: 201710497938.2 申请日: 2017-06-27
公开(公告)号: CN107359876B 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 宋慧滨;杜媛;吴建辉;李红 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H03M1/10 分类号: H03M1/10
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 柏尚春
地址: 210096*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 适用于 sar adc dac 电容 阵列 对应 开关 切换 方法
【权利要求书】:

1.一种适用于双端SAR-ADC的DAC电容阵列的设计方法,其特征在于,该DAC电容阵列包括比较器、最高位电容C1及非二进制电容阵列;

所述最高位电容C1包括第一最高位电容C1-1和第二最高位电容C1-2,所述非二进制电容阵列包括次高位电容C2、第三位电容C3、第四位电容C4与低位电容阵列;所述非二进制电容阵列中每位电容大小为2i或多个2i之和,i为自然数;且,最高位电容C1大于次高位电容C2;所述第一最高位电容C1-1的大小权重与次高位电容C2的大小权重相等,第二最高位电容C1-2的大小权重与第三位电容C3的大小权重相等;

所述比较器包括正输入端P端和负输入端N端,P端通过采样开关连接至正输入Vip,N端通过采样开关连接至负输入Vin;

沿正输入Vip至P端和负输入Vin至N端,均依次设有第一最高位电容C1-1、第二最高位电容C1-2和非二进制电容阵列;其中,所有电容的上极板均连接至输入电平,第一最高位电容C1-1和第二最高位电容C1-2的下极板接GND,非二进制电容阵列的下极板均接参考电平Vref;

其设计方法具体为:

原来的电容阵列包括原最高位电容X1和二进制电容阵列,所述二进制电容阵列包括原次高位电容X2、原第三位电容X3、原第四位电容X4以及原低位电容阵列,其新的电容阵列的设计方法包括以下步骤:

(1)将原最高位电容X1拆分成两部分,一部分为Y1,另一部分为Y2,其中Y1大于次高位电容X2,且大于2/3X1;

(2)将Y1设为新的最高位电容C1,其包括新的第一最高位电容C1-1和第二最高位电容C1-2,将Y2拆分成N份,其中N为原二进制电容阵列中电容的个数,第一份至第N份分别表示为Z1,…,ZN,且Zi等于2j或多个2j之和,其中i和j均为自然数;

(3)将Z1,…,ZN分别与原二进制电容阵列的原第三位至第N+2位电容结合,形成的新的第三位至第N+2位电容分别为C3,…,C(N+2),原次高位电容X2位新的次高位电容C2,其与新的第三位至第N+2位电容一起形成非二进制电容阵列。

2.根据权利要求1所述的一种适用于双端SAR-ADC的DAC电容阵列的设计方法,其特征在于,所述低位电容阵列包括第五位电容C5、第六位电容C6、第七位电容C7、第八位电容C8、第九位电容C9和第十位电容C10。

3.一种采用适用于双端SAR-ADC的DAC电容阵列的开关切换方法,其特征在于,该DAC电容阵列包括比较器、最高位电容C1及非二进制电容阵列;

所述最高位电容C1包括第一最高位电容C1-1和第二最高位电容C1-2,所述非二进制电容阵列包括次高位电容C2、第三位电容C3、第四位电容C4与低位电容阵列;所述非二进制电容阵列中每位电容大小为2i或多个2i之和,i为自然数;且,最高位电容C1大于次高位电容C2;所述第一最高位电容C1-1的大小权重与次高位电容C2的大小权重相等,第二最高位电容C1-2的大小权重与第三位电容C3的大小权重相等;

所述比较器包括正输入端P端和负输入端N端,P端通过采样开关连接至正输入Vip,N端通过采样开关连接至负输入Vin;

沿正输入Vip至P端和负输入Vin至N端,均依次设有第一最高位电容C1-1、第二最高位电容C1-2和非二进制电容阵列;其中,所有电容的上极板均连接至输入电平,第一最高位电容C1-1和第二最高位电容C1-2的下极板接GND,非二进制电容阵列的下极板均接参考电平Vref;

开关切换方法包括以下步骤:

(1)进行采样和第一次比较;

(2)第二次比较和开关切换;

(3)第三次比较和开关切换;

(4)第i次比较和第i位电容切换,其中,i为大于3的正整数;

(5)将得到的数字码进行数字误差校准。

4.根据权利要求3所述的一种开关切换方法,其特征在于,所述低位电容阵列包括第五位电容C5、第六位电容C6、第七位电容C7、第八位电容C8、第九位电容C9和第十位电容C10。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710497938.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top