[发明专利]一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示屏技术领域，具体涉及一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液。

背景技术

化学蚀刻是通过化学反应利用化学溶液的腐蚀作用将不期望的金属快速溶解除掉的过程。金属蚀刻必须采用高效稳定的蚀刻液才能实现高效稳定的蚀刻功能，这样，蚀刻产品的精度才能满足较高的加工要求。化学蚀刻加工对掩膜处理的工件进行喷淋蚀刻，通过液压系统调节喷淋压力。为了保证加工的均匀性，将加工样件放置在可旋转的工作台上，设置加工时间，即可进行模具钢的蚀刻加工。现有的蚀刻液适用于高精度尺寸的要求微结构的快速蚀刻，蚀刻过程稳定，原料成本低，能满足生产线的加工需求。此外，现有的刻蚀液包括三氯化铁和硝酸，并且其显著特点是蚀刻图案或文字的轮廓缝隙较窄，微细蚀刻加工的尺寸偏差小，发生的侧蚀量较小，在蚀刻过程中会从未掩膜区域自上而下发生蚀刻，刻蚀的定域性好，蚀刻效率高，易于控制，蚀刻加工的微结构具有明显棱边过渡，凸起呈长方体阵列分布，凹坑为边沿垂直性好的深坑，在保证蚀刻深度的同时有较好的形貌特征，深径比可以控制在一定范围内，截面形状近似于矩形波，整体微观结构凸凹过渡明显。但是，现有的蚀刻液加工出来的图形往往存在表面开口大，内部开口小的形状，其断面如梯形。模具钢表面呈方格子状细纹，这样造成的后果是加工工件触感差，同时还影响视觉效果。

发明内容

本发明旨在提供了一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液。

本发明提供如下技术方案：

一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液，所述蚀刻液由以重量计的下述组分配制而成：氢氟酸15-25％、乙二胺15-25％、氯酸盐15-25％、三氯化铁15-25％、铜腐蚀抑制剂5-9％、阴离子表面活性剂7-11％。

所述铜蚀刻液的铜浓度为60-150克/升。

所述通腐蚀抑制剂选自含有硫原子、且含有至少一种选自氨基、亚氨基、羧基、羰基及羟基中的取代基的碳原子数为7以下的化合物。

所述阴离子表面活性剂是选自由十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠和二辛基琥珀酸磺酸钠中的至少一种阴离子表面活性剂。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过显示屏基板薄化之后对附着在基板表面的沉淀杂质进行溶解，能有效去除基板表面杂质，可以提高产品合格率和良率，同时可以对基板厚度的控制提供有效保证；本发明提供的蚀刻液，可以通过对基板表面的杂质进行溶解和蚀刻，达到去除基板表面杂质的技术效果，从而有效解决基板由于颗粒状附着而降低良率的问题。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液，所述蚀刻液由以重量计的下述组分配制而成：氢氟酸15％、乙二胺15％、氯酸盐15％、三氯化铁15％、铜腐蚀抑制剂5％、阴离子表面活性剂7％。

进一步的，铜蚀刻液的铜浓度为60-150克/升。

进一步的，通腐蚀抑制剂选自含有硫原子、且含有至少一种选自氨基、亚氨基、羧基、羰基及羟基中的取代基的碳原子数为7以下的化合物。

进一步的，阴离子表面活性剂是选自由十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠和二辛基琥珀酸磺酸钠中的至少一种阴离子表面活性剂。

实施例2一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液，所述蚀刻液由以重量计的下述组分配制而成：氢氟酸25％、乙二胺25％、氯酸盐25％、三氯化铁25％、铜腐蚀抑制剂9％、阴离子表面活性剂11％。

进一步的，铜蚀刻液的铜浓度为60-150克/升。

进一步的，通腐蚀抑制剂选自含有硫原子、且含有至少一种选自氨基、亚氨基、羧基、羰基及羟基中的取代基的碳原子数为7以下的化合物。

进一步的，阴离子表面活性剂是选自由十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠和二辛基琥珀酸磺酸钠中的至少一种阴离子表面活性剂。

实施例3一种用于液晶显示屏玻璃基板的铜蚀刻液，所述蚀刻液由以重量计的下述组分配制而成：氢氟酸18％、乙二胺22％、氯酸盐19％、三氯化铁18％、铜腐蚀抑制剂7％、阴离子表面活性剂9％。

进一步的，铜蚀刻液的铜浓度为60-150克/升。

进一步的，通腐蚀抑制剂选自含有硫原子、且含有至少一种选自氨基、亚氨基、羧基、羰基及羟基中的取代基的碳原子数为7以下的化合物。