[发明专利]蒸镀设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示器制备技术领域，尤其涉及一种蒸镀设备。

背景技术

有机发光二极管包括阳极、阴极、以及设置于所述阳极与所述阴极之间的发光层。在工作期间，空穴自阳极被注入至发光层中，且电子自阴极被注入至发光层中。所述空穴与所述电子在发光层中彼此耦合，从而产生激子(exciton)。当所述激子自激发态变至基态时，便会发光。

有机发光二极管可根据所要再现的颜色而被分类成单色(monochromatic)有机发光二极管及全色(full-color)有机发光二极管。全色有机发光二极管配备有根据作为光原色的红色(R)、绿色(G)及蓝色(B)而被图案化的发光层，进而再现全色。在全色有机发光二极管中，可根据用于形成发光层的材料以各种方式执行发光层的图案化。用于将发光层图案化的有机发光二极管沉积方法包括利用精细金属掩模(fine metal mask；FMM)的水平沉积方法、采用激光诱导热成像(laser induced thermal imaging；LITI)技术的方法、利用滤色器的方法、小掩模扫描(small mask scanning；SMS)沉积方法等。

在蒸镀过程中，为了使得掩模与基板严密贴合，一般会设置铁磁板，铁磁板用于吸附掩模，基板位于掩模和铁磁板之间，但随着单位面积内像素单元的增多，掩模上的缝隙越来越密集，一段时间后，掩模会松弛，但铁磁板为永磁铁，其磁场保持在一个固定的值，当掩模松弛时，铁磁板给掩模的吸力将无法保证基板与掩模紧密贴合，这样就会使得蒸镀材料不能准确覆盖阳极，降低显示装置的成品率。

发明内容

本发明提供了一种蒸镀设备，用以减少亚像素覆盖不全、像素之间的混色现象，提高掩模的网孔与基板的亚像素之间的对位精确度，提高蒸镀效果，提高蒸镀成品率。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

本发明提供了一种蒸镀设备，包括：

与蒸镀设备的腔室内壁转动连接的支撑框架，固定于所述支撑框架的电磁铁，所述电磁铁包括：铁芯以及缠绕于所述铁芯上的线圈，其中所述铁芯的轴线垂直于掩模，所述电磁铁用于在其内的线圈通入电流时吸附所述掩模，且所述电磁铁内的线圈通入的电流的大小可调。

本发明提供的蒸镀设备，通过将原有的用于吸附掩模的永久性磁铁变为电磁铁，可以通过改变通入线圈内的电流的大小，来改变电磁铁的磁场的大小，进而可以便于改变其对掩模的吸附力的大小，以便在使用时，可以根据需要调节基板和掩模之间的贴合紧密性；同时，本发明提供的蒸镀设备，还可以通过改变通入电流的大小，以便对磁化了的掩模进行消磁；另外通过断开接入的电流，可以减少掩模与基板分离时变形现象的发生，便于电磁铁与掩模分离。

故，本发明提供的蒸镀设备，可以减少亚像素覆盖不全、像素之间混色现象的发生，提高掩模的网孔与基板的亚像素之间的对位精确度，提高蒸镀效果，提高蒸镀成品率。

在一些可选的实施方式中，所述电磁铁的个数为多个，多个所述电磁铁被划分为至少两个区域，每个所述区域内相邻的电磁铁之间相互串联。这样的设计，可以使得多个电磁铁被分区域控制，可以根据每个区域内掩模的松弛度，控制该区域内电磁铁的磁场大小，控制电磁铁对掩模的吸附力的大小，进而控制该区域内掩模与基板的贴合紧密性。

在一些可选的实施方式中，所述蒸镀设备还包括：供电装置，所述供电装置包括与多个所述电磁铁被划分的区域一一对应连接的输出端，且每个输出端连接有用于调节输出电流大小的调节装置。这样的设计，可以节省供电装置的数量。

在一些可选的实施方式中，所述蒸镀设备还包括：所述蒸镀设备还包括：与多个所述电磁铁被划分的区域一一对应连接的供电装置，每个所述供电装置的输出端连接有用于调节输出电流大小的调节装置。将供电装置设置为多个，更便于调节单个区域的供电电流。

在一些可选的实施方式中，所述蒸镀设备上设有用于控制所述调节装置的调节开关。

在一些可选的实施方式中，多个所述电磁铁被划分的区域的个数与待蒸镀的基板上的子基板的个数一一对应。这样便于调节掩模与对应的每个子基板之间的贴合紧密性。

在一些可选的实施方式中，多个所述电磁铁被划分的区域的个数与待蒸镀的基板上的子基板内的像素单元的个数一一对应。可以进一步提高掩模与基板贴合的紧密性。

在一些可选的实施方式中，所述电磁铁内的线圈通入的电流的方向可调。通过改变线圈通入电流的方向以及大小，可以更好的起到消磁的效果。

在一些可选的实施方式中，每个所述电磁铁卡接或焊接于所述支撑框架。