[发明专利]一种表面修饰的胶态硅纳米晶的制备方法

权利要求书

1.一种表面修饰的胶态硅纳米晶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)纳米硅粉与有机溶剂的混合液，在搅拌状态下激光烧灼；

2)将激光烧灼后的混合液分离处理，得到胶态硅纳米晶；

其中，有机溶剂为乙醇、甲苯、正己烯或1-十八烯；

激光烧灼条件为，钛/蓝宝石激光器的参数：功率：600～810mW，波长：500～800nm，照射持续时间：100fs，频率：80MHz；烧灼时长1～6h。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，纳米硅粉与有机溶剂的混合比为1～5mg/1ml。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，胶态硅纳米晶的粒径分布为2～13nm，平均粒径分布为3.5～7.5nm。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，有机溶剂为正己烯，纳米硅粉与有机溶剂的混合比为1mg/ml。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，钛/蓝宝石激光器的参数为，功率：810mW，波长：800nm，照射持续时间：100fs，频率：80MHz；烧灼时长3h。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，磁力搅拌混合液。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤2)中，分离处理方式为离心分离。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，离心分离条件为，转速8000～12000rpm，时长15～45min。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，纳米硅粉粒径为50～120nm。