[发明专利]一种全抛釉砖的制备方法

说明书

本发明所述一种全抛釉砖的制备方法，其制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点，而且增加铝的加入，可获得强度高(强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度＞100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。

技术领域

本发明涉及釉面砖技术领域，具体地说，涉及一种全抛釉砖的制备方法。

背景技术

全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽，其特点是透明不遮盖底下的抛釉和各道花釉。全抛釉砖全抛釉是釉下彩，属于釉面砖，它是在施完底釉料后就印花，再施一层透明的抛釉，烧制后把整个抛釉抛去一部分，保留一部分抛釉层、印花层、底釉料。全抛釉仿古砖属于一次烧成，在釉面进行抛光，属于最后一道工序。

但是，现有制备方法在生产过程中釉料损耗大，成本高，而且制备方法稳定性和产品质量较差。

发明内容

本发明克服了现有技术中的缺点，提供了一种全抛釉砖的制备方法，实现了提高工艺的稳定性和产品质量、减少生产过程中釉料损耗、降低成本。

为了解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

一种全抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：

(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO₂ 65～70％、Al₂O₃ 16～20％、Fe₂O₃2～3％、TiO₂ 0.2～0.4％、CaO 0.7～0.8％、K₂O 2～2.5％、SnO₂ 2～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；

(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO₂65～72％、Al₂O₃ 18～22％、Fe₂O₃ 0.1～0.2％、TiO₂ 0.03～0.05％、CaO 2～3％、ZrO ₂ 0.1～0.2％、K₂O 1.5～2.0％、SnO₂ 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；

(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO₂ 68～73％、Al₂O₃ 13～17％、Fe₂O₃ 0.1～0.15％、TiO₂ 0.02～0.04％、CaO 3～5％、K₂O 0.4～0.5％、SnO₂ 2.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；

(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；

(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。

进一步，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO₂ 69％、Al₂O₃ 18％、Fe₂O₃ 2.5％、TiO₂ 0.3％、CaO 0.75％、K₂O 2.2％、SnO₂2.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比。