[发明专利]一种全抛釉砖的制备方法

权利要求书

1.一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO₂ 65～70％、Al₂O₃ 16～20％、Fe₂O₃ 2～3％、TiO₂ 0.2～0.4％、CaO 0.7～0.8％、K₂O 2～2.5％、SnO₂ 2～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；

(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO₂65～72％、Al₂O₃ 18～22％、Fe₂O₃ 0.1～0.2％、TiO₂0.03～0.05％、CaO 2～3％、ZrO ₂ 0.1～0.2％、K₂O 1.5～2.0％、SnO₂ 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；

(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO₂ 68～73％、Al₂O₃ 13～17％、Fe₂O₃ 0.1～0.15％、TiO₂0.02～0.04％、CaO 3～5％、K₂O 0.4～0.5％、SnO₂ 2.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；

(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；

(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃；

步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成，制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；

其中，所述软质原料为高铝泥2.5％、水洗泥7.5％、博罗泥2％、惠东精选泥3％、膨润土1.5％、65#水洗泥6.5％；硬质原料为中山石粉17.5％、盛发石粉14.5％、高铝钾砂5％、氧化锡4.5％、东平砂30％、新丰石粉2.7％、滑石粒2.8％，各成分的百分比为质量百分比。

2.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO₂ 69％、Al₂O₃ 18％、Fe₂O₃ 2.5％、TiO₂ 0.3％、CaO 0.75％、K₂O2.2％、SnO₂ 2.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比。

3.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的底釉原料的主要化学成分为：SiO₂ 70％、Al₂O₃ 20％、Fe₂O₃ 0.15％、TiO₂ 0.04％、CaO 2.56％、ZrO₂0.15％、K₂O 1.8％、SnO₂ 2.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比。