[发明专利]一种靶材余量测量装置

权利要求书

1.一种靶材余量测量装置，其特征在于，包括：

主体结构，设有沿第一方向依次排列的多个测量轨道；每个测量轨道沿第二方向延伸，所述第二方向垂直于所述第一方向；

多个顶针，与所述多个测量轨道一一对应；每个顶针沿第二方向延伸，且第一端限位于与其对应的测量轨道内；每个顶针可沿与其对应的测量轨道自由移动、且可部分伸出所述测量轨道；

多个滑块，与所述多个测量轨道一一对应；每个滑块可沿与其对应的测量轨道滑动地设置于所述测量轨道内、且限位于与所述测量轨道相对应的顶针的第一端的端面；每个滑块与所述测量轨道之间的静摩擦力大于其自身重力；

一主尺，设置于所述主体结构上，且设有沿第二方向排列的刻度线。

2.根据权利要求1所述的靶材余量测量装置，其特征在于，还包括：

一对位尺，沿第一方向延伸，且可沿第二方向滑动地安装于所述主尺上。

3.根据权利要求2所述的靶材余量测量装置，其特征在于，还包括：

一归位尺，沿第一方向延伸，且可沿多个测量轨道滑动地安装于所述主体结构上，所述归位尺设置于所述多个滑块背离所述多个顶针的一侧；当所述归位尺沿多个测量轨道滑动时，可推动每个测量轨道内的滑块朝向顶针移动。

4.根据权利要求3所述的靶材余量测量装置，其特征在于，

所述主体结构上设有允许所述归位尺沿所述多个测量轨道滑动的轨道缝隙；

所述归位尺可沿所述轨道缝隙滑动、以推动每个测量轨道内的滑块朝向顶针移动。

5.根据权利要求3所述的靶材余量测量装置，其特征在于，还包括：

用于驱动所述对位尺沿第二方向滑动的第一调节钮；和/或，

用于驱动所述归位尺沿所述多个测量轨道滑动的第二调节钮。

6.根据权利要求1所述的靶材余量测量装置，其特征在于，还包括：

两个限位柱，所述两个限位柱分别设置于所述主体结构沿第一方向上的两端；每个限位柱沿第二方向延伸、且可沿第二方向滑动地安装于所述主体结构上；

两个锁定机构，与所述两个限位柱一一对应，每个锁定机构用于将与其对应的限位柱与所述主体结构之间相对固定。

7.根据权利要求1～6任一项所述的靶材余量测量装置，其特征在于，所述主尺可沿第二方向滑动地安装于所述主体结构上。

8.根据权利要求1～6任一项所述的靶材余量测量装置，其特征在于，还包括固定安装于所述主体结构上、用于把持的握柄。

9.根据权利要求1～6任一项所述的靶材余量测量装置，其特征在于，

每个测量轨道包括轨道部和位于所述轨道部一端的端部，所述端部设有允许所述顶针部分伸出所述测量轨道的开口。

10.根据权利要求9所述的靶材余量测量装置，其特征在于，

每个顶针包括杆部和形成所述顶针的第一端的头部；所述头部的径向尺寸大于所述测量轨道的端部开口的径向尺寸、且小于所述测量轨道的轨道部的内径尺寸；所述杆部的径向尺寸小于所述测量轨道的端部开口的径向尺寸。

11.根据权利要求10所述的靶材余量测量装置，其特征在于，

所述顶针的杆部径向尺寸小于等于0.4mm；

所述测量轨道的端部开口的径向尺寸小于等于0.5mm。