[发明专利]抛光方法在审
| 申请号： | 201710439550.7 | 申请日： | 2017-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN107309710A | 公开（公告）日： | 2017-11-03 |
| 发明（设计）人： | 赵慧佳;路新春;沈攀 | 申请（专利权）人： | 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种抛光方法，其特征在于，所述抛光方法包括：
将两片待抛光物的待抛光面对向放置并在两个待抛光面之间放入抛光液，使两个待抛光物相对移动进行抛光。
2.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，抛光过程中两个所述待抛光物分别自转和相对平移。
3.根据权利要求2所述的抛光方法，其特征在于，两个所述待抛光物每分钟进行10到20次相对平移。
4.根据权利要求2所述的抛光方法，其特征在于，两个所述待抛光面均为圆形，且一个所述待抛光物最大平移距离不小于所述待抛光面直径的两倍。
5.根据权利要求2所述的抛光方法，其特征在于，两个所述待抛光物相对平移过程中添加所述抛光液。
6.根据权利要求2所述的抛光方法，其特征在于，两个所述待抛光物的自转速度不同和/或自转方向相反。
7.根据权利要求2所述的抛光方法，其特征在于，两个所述待抛光物的自转速度均为50rpm～160rpm且自转方向相反。
8.根据权利要求2所述的抛光方法，其特征在于，两个所述待抛光物相对平移的同时各自自转。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的抛光方法，其特征在于，所述抛光液的磨料包括金刚石、碳化硅、碳化硼、氧化铝以及氧化硅中的至少一种。
10.根据权利要求1-8中任一项所述的抛光方法，其特征在于，所述抛光液中磨料的比例为5％～20％。
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