[发明专利]阻变器件及其制作方法、显示基板的制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710434611.0 | 申请日： | 2017-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN107256924B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 邢伟强;邓金阳;赵德友;毛振华;李默;陈勋;李松 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L45/00 | 分类号： | H01L45/00 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 器件 及其 制作方法 显示 显示装置 | ||
1.一种阻变器件的制作方法，其特征在于，包括：
形成第一电极层；
在所述第一电极层上形成表面相互接触的碳单质层和过渡金属氧化物层；
对所述表面相互接触的碳单质层和过渡金属氧化物层进行退火，以使碳单质层至少部分地通过与所述过渡金属氧化物层之间发生的氧化还原反应以气体的形式挥发，并使所述过渡金属氧化物层由其内部产生的氧空位而向阻变材料转变，所述阻变材料中的氧空位分布通过退火过程中的工艺参数来进行调整；
形成第二电极层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一电极层上形成表面相互接触的碳单质层和过渡金属氧化物层，包括：
在所述第一电极层上形成碳单质层；
在所述碳单质层上形成过渡金属氧化物层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在所述碳单质层上形成过渡金属氧化物层，包括：
通过印刷工艺将过渡金属氧化物的溶胶打印在所述碳单质层上，以形成过渡金属氧化物层。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述印刷工艺具体是凸版印刷工艺或者喷墨打印工艺。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一电极层上形成表面相互接触的碳单质层和过渡金属氧化物层，包括：
在所述第一电极层上形成过渡金属氧化物层；
在所述过渡金属氧化物层上形成碳单质层。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，在对所述表面相互接触的碳单质层和过渡金属氧化物层进行退火处理时，使所述碳单质层以气体的形式完全挥发。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述第一电极层和/或第二电极层的形成材料是金属。
8.一种阻变器件，其特征在于，所述阻变器件采用如权利要求1至7中任一项所述的方法制作得到。
9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：按照如权利要求1至7中任一项所述的方法形成包括阻变器件的层结构。
10.一种显示装置，其特征在于，包括采用如权利要求9所述的方法制作得到的显示基板。
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