[发明专利]张网装置、基台、夹具及掩膜板的夹持方法有效
申请号: | 201710433816.7 | 申请日: | 2017-06-09 |
公开(公告)号: | CN107245694B | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 吴建鹏;杨忠英;罗昶 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 滕一斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 夹具 掩膜板 夹持 方法 | ||
本发明公开了一种张网装置、基台、夹具及掩膜板的夹持方法,属于显示面板制造领域。所述张网装置包括:用于承载掩膜板的基台、用于夹持所述掩膜板的夹具和设置在所述基台或所述夹具上的形变调节组件;所述形变调节组件用于在所述基台承载所述掩膜板时调节所述掩膜板凸出于所述基台的部分在重力方向上的形变量,使所述形变量小于预设形变阈值。本发明通过调节组件调节掩膜板凸出于基台的部分在重力方向上的形变量,进而使得夹具可以顺利的夹取掩膜板。本发明用于张网装置中。
技术领域
本发明涉及显示面板制造领域,特别涉及一种张网装置、基台、夹具及掩膜板的夹持方法。
背景技术
目前,蒸镀工艺是制作有机发光二极管(英文:Organic Light-Emitting Diode;OLED)显示器的有机发光层的过程中的重要工艺之一,具体的,利用具有图案的掩膜组件,通过真空蒸镀方式在待蒸镀基板上形成所需的图案。其中,掩膜板组件包括金属框架和掩膜板,在掩膜板与金属框架结合时需要利用张网装置使掩膜板在金属框架上张紧后,将掩膜板固定在金属框架上。该掩膜板可以为精细金属掩膜板(英文:Fine Metal Mask,简称:FMM)。
请参考图1,图1是现有技术提供的一种张网装置的结构示意图,该张网装置包括基台01和夹具02,该基台01用于承载掩膜板03,为了方便夹具02夹取基台01上的掩膜板03,掩膜板03的宽度d2需要大于基台01的宽度d1,通常掩膜板03的宽度d2比基台01的宽度d1大30毫米(mm),也即是,当基台01承载掩膜板03时,掩膜板03凸出于基台01两侧的距离d3为15mm。
但是,凸出于基台两侧的掩膜板在其自身重力的影响下,掩膜板凸出于基台的部分在重力方向上存在形变量,例如,如图1所示,掩膜板03凸出于基台01的部分在重力方向上的形变量为d0,当d0大于1mm时,夹具无法顺利的夹取掩膜板。
发明内容
为了解决现有技术的夹具无法顺利的夹取掩膜板的问题,本发明实施例提供了一种张网装置、基台、夹具及掩膜板的夹持方法。所述技术方案如下:
第一方面,提供一种张网装置,包括:
用于承载掩膜板的基台、用于夹持所述掩膜板的夹具和设置在所述基台或所述夹具上的形变调节组件;
所述形变调节组件用于在所述基台承载所述掩膜板时调节所述掩膜板凸出于所述基台的部分在重力方向上的形变量,使所述形变量小于预设形变阈值。
可选的,所述形变调节组件包括:电磁铁和电流控制单元;
所述电磁铁与所述电流控制单元连接,所述电流控制单元通过控制输出的电流大小以控制所述电磁铁的电磁力。
可选的,所述张网装置还包括:测量单元;
所述测量单元与所述电流控制单元连接,所述测量单元用于测量所述掩膜板凸出于所述基台的部分在重力方向上的初始形变量,所述初始形变量为所述调节组件调节之前的所述掩膜板凸出于所述基台的部分在重力方向上的形变量;
所述电流控制单元用于根据所述初始形变量确定所述电流控制单元输出的电流,并向所述电磁铁输出所述电流。
可选的,所述电流控制单元输出的电流的大小等于所述初始形变量的大小与预设比值的乘积,且所述电磁铁的电磁力小于或等于所述掩膜板凸出于所述基台的部分所受到的重力。
可选的,所述形变调节组件包括:n1个可拆卸设置的磁铁,所述n1为大于或等于2的整数。
可选的,所述张网装置还包括:支撑杆,
所述支撑杆一端与所述基台的边缘连接,另一端上设置有所述形变调节组件,所述形变调节组件位于所述基台的工作面上方。
可选的,所述夹具包括:夹持组件;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710433816.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:掩膜组件、真空镀膜装置及其使用方法
- 下一篇:一种镀铝阴阳膜及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类