[发明专利]形成精细图案的方法

说明书

提供了一种形成精细图案的方法，所述方法包括以下步骤：在基体部上形成导电层；在导电层上形成包括粘附材料的牺牲层，粘附材料包括邻苯二酚基；在牺牲层上形成抗蚀图案；以及通过使用抗蚀图案作为掩模使导电层图案化来形成精细图案。

本申请要求于2016年6月7日提交的第10-2016-0070404号韩国专利申请的优先权和权益，该申请出于所有目的通过引用包含于此，如同在此充分地阐述。

技术领域

示例性实施例涉及形成精细图案的方法。

背景技术

偏振片是将非偏振的或任意偏振的电磁波转换为具有期望的偏振的电磁波的光学元件。例如，聚乙烯醇(PVA)偏振片可以作为吸收型偏振片用在薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)中。PVA偏振片可以设置在面板的上玻璃和下玻璃中的每一个玻璃上，并可以使从背光单元(BLU)发射的光穿过或阻挡以进行面板驱动。

与吸收S-偏振波并且使P-偏振波穿过的吸收型偏振片不同，金属线栅偏振片(WGP)是反射S-偏振波并且使P-偏振波穿过的反射式偏振片。因此，如果将金属WGP应用到诸如TFT-LCD的显示装置，则可以循环利用从金属WGP的表面反射的S-偏振波，从而提高亮度并降低光源的成本。

随着显示装置在尺寸上变得更大，会需要没有缺陷并可应用于大的区域的金属WGP。因此，需要在大的区域上方形成精细图案的方法以制造主模(master mold)或金属WGP，以及需要可以容易地校正缺陷的形成精细图案的方法。

本背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对发明构思的背景技术的理解，因此其可能包含不形成本领域的普通技术人员在本国已知的现有技术的信息。

发明内容

示例性实施例提供一种容易校正缺陷的形成精细图案的方法。

示例性实施例也提供一种在大的区域上方形成精细图案的方法。

另外的方面将在随后的详细描述中进行阐述，并且将部分地通过公开而清楚，或者可通过发明构思的实践而被获知。

示例性实施例公开一种形成精细图案的方法，所述方法包括以下步骤：在基体部上形成导电层；在导电层上形成包括粘附材料的牺牲层，所述粘附材料包括邻苯二酚基；在牺牲层上形成抗蚀图案；以及通过使用抗蚀图案作为掩模使导电层图案化来形成精细图案。

示例性实施例还公开一种形成精细图案的方法，所述方法包括以下步骤：准备包括第一区域、第二区域和位于第一区域与第二区域之间的边界区域的基体部；在第一区域、第二区域和边界区域上形成包括第一粘附材料的第一牺牲层，所述第一粘附材料包括邻苯二酚基；在第一牺牲层上形成第一抗蚀图案；在第一牺牲层上形成第一覆盖图案，以覆盖第一抗蚀图案的与边界区域叠置的部分，第一覆盖图案不覆盖第一抗蚀图案的与第一区域叠置的部分；通过使用第一抗蚀图案和第一覆盖图案作为掩模使第一区域图案化来形成第一精细图案；将第一牺牲层与基体部分开；以及在基底部的第二区域上形成第二精细图案。

前面的总体描述和下面的详细描述是示例性的和解释性的，并意图提供对要求保护的主题的进一步解释。

附图说明

包括附图以提供发明构思的进一步理解，附图被并入本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了发明构思的示例性实施例，并与描述一起用于解释发明构思的原理。

图1是示出根据本发明的示例性实施例的形成精细图案的方法的流程图。

图2、图3、图4、图5、图6、图7、图8、图9、图10、图11和图12是示出图1的方法的操作的示意性剖视图。

图13是包括使用图1的形成精细图案的方法制造的线栅偏振片的显示基底的示意性剖视图。

图14是示出根据本发明的示例性实施例的形成精细图案的方法的流程图。