[发明专利]形成精细图案的方法

权利要求书

1.一种形成精细图案的方法，所述方法包括：

准备包括第一区域、第二区域和位于所述第一区域与所述第二区域之间的边界区域的基体部；

在所述第一区域、所述第二区域和所述边界区域上形成包括第一粘附材料的第一牺牲层，所述第一粘附材料包括邻苯二酚基；

在所述第一牺牲层上形成第一抗蚀图案；

在所述第一牺牲层上形成第一覆盖图案，以覆盖所述第一抗蚀图案的与所述边界区域叠置的部分，所述第一覆盖图案不覆盖所述第一抗蚀图案的与所述第一区域叠置的部分；

通过使用所述第一抗蚀图案和所述第一覆盖图案作为掩模使所述第一区域图案化来形成第一精细图案；

将所述第一牺牲层与所述基体部分开；以及

在所述基体部的所述第二区域上形成第二精细图案。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一粘附材料包括聚多巴胺或聚去甲肾上腺素。

3.如权利要求1所述的方法，其中，将所述第一牺牲层与所述基体部分开的步骤包括将所述第一牺牲层浸入碱性溶液或过氧化氢溶液中。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述碱性溶液包括氢氧化四甲铵或氢氧化钾。

5.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一覆盖图案还覆盖与所述第二区域叠置的所述第一牺牲层。

6.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述第一抗蚀图案的步骤包括：

在所述第一牺牲层上形成第一抗蚀层；以及

通过第一压印工艺在所述第一抗蚀层上转印模具的转印图案的形状。

7.如权利要求1所述的方法，其中，形成所述第二精细图案的步骤包括：

在所述第一区域、所述第二区域和所述边界区域上形成包括第二粘附材料的第二牺牲层，所述第二粘附材料包括邻苯二酚基；

在所述第二牺牲层上形成第二抗蚀图案；

在所述第二牺牲层上形成第二覆盖图案以覆盖所述第二抗蚀图案的与所述边界区域叠置的部分，所述第二覆盖图案不覆盖所述第二抗蚀图案的与所述第二区域叠置的部分；

通过使用所述第二抗蚀图案和所述第二覆盖图案作为掩模使所述第二区域图案化来形成第二精细图案；以及

将所述第二牺牲层与所述基体部分开。

8.如权利要求7所述的方法，其中，所述第二粘附材料和所述第一粘附材料包括相同的材料。

9.如权利要求7所述的方法，其中，所述第二覆盖图案还覆盖与所述第一区域叠置的所述第二牺牲层。

10.如权利要求7所述的方法，其中：

形成所述第一抗蚀图案的步骤包括：在所述第一牺牲层上形成第一抗蚀层；通过第一压印工艺在所述第一抗蚀层上转印模具的转印图案的形状；以及

形成所述第二抗蚀图案包括：在所述第二牺牲层上形成第二抗蚀层；通过第二压印工艺将所述模具的所述转印图案的所述形状转印到所述第二抗蚀层上。

11.如权利要求1所述的方法，其中，与所述边界区域叠置的图案的宽度不同于与所述第一区域叠置的所述第一精细图案的宽度。

12.如权利要求7所述的方法，其中，与所述边界区域叠置的图案的宽度不同于与所述第一区域叠置的所述第一精细图案的宽度以及与所述第二区域叠置的所述第二精细图案的宽度。