[发明专利]一种盖板制备系统及盖板制备方法

说明书

技术领域

本申请涉及电子产品制备技术领域，更具体地说，涉及一种盖板制备系统及盖板制备方法。

背景技术

随着社会的不断发展，电子产品的种类也愈加繁多，在电子产品中，盖板是影响电子产品显示效果的重要配件之一。

电子产品在高亮度环境中使用时，很可能会出现眩光问题。眩光不仅影响用户使用电子产品，而且会对用户的视力健康产生不良影响。特别是在电纸书、教育白板等以阅读大量文字为主的电子产品中，如何避免产生眩光问题是电子产品厂商关注的问题之一，通常情况下，在这类产品中，通常通过配置高雾度盖板来实现降低眩光产生概率的目的。

但是在现有技术中，具有高雾度特性的盖板在制作过程中通常采用对基材进行蒙砂，然后蚀刻的方式形成高雾度盖板。但是蒙砂过程需要采用蒙砂粉对基材进行处理，而蒙砂粉通常以氟化物(如氟化铵、氟氢化钾、氟化钙)为主要成分，再加入硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾以及其他添加剂制成，蒙砂粉对操作人员的伤害很大，蒙砂过程处理废物对环境的污染也很大。如何降低具有高雾度特性的盖板在制作过程中对操作人员的伤害和对环境的污染，成为厂商努力的方向。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供了一种盖板制备系统及盖板制备方法，以实现降低具有高雾度特性的盖板在制作过程中对操作人员的伤害和对环境的污染的目的。

为实现上述技术目的，本发明实施例提供了如下技术方案：

一种盖板制备系统，包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；其中，

所述悬浊液容器用于盛放悬浊液，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度；

所述基材夹具设置于所述悬浊液容器的上方，用于固定所述基材一侧表面，和用于将所述基材浸入所述悬浊液或从所述悬浊液中取出；

所述转动装置设置于所述悬浊液容器底部，用于带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。

可选的，所述转动装置工作时，所述转动装置在所述悬浊液容器底部的投影完全覆盖所述基材在所述悬浊液容器底部的投影。

可选的，所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘；

所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；

所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动。

可选的，所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向。

可选的，所述第一时针方向为顺时针方向；

所述第二时针方向为逆时针方向。

一种盖板制备方法，应用于上述任一项所述的盖板制备系统，所述盖板制备系统包括：悬浊液容器、转动装置和基材夹具；所述盖板制备方法包括：

提供基材，并在所述悬浊液容器中倒入悬浊液；

利用所述基材夹具吸附所述基材，并将所述基材的待处理表面浸入所述悬浊液中，所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液，所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度；

利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。

可选的，当所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘；

所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动；

所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：

利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动；

利用所述第二转账转盘沿所述第一转动转盘转动方向的反方向转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。

可选的，当所述第一转动转盘还用于每隔第一预设时间改变转动方向，所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向时，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括：

利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第一预设时间改变转动方向；

利用所述第二转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动，并每隔第二预设时间改变转动方向，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。

可选的，当所述基材为玻璃时，所述预设材料颗粒为氧化铝颗粒或碳化硅颗粒或氧化铝与碳化硅的混合物颗粒。

可选的，所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动，以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨之后还包括：

对所述基材进行光化过程。