[发明专利]一种盖板制备系统及盖板制备方法在审
| 申请号: | 201710428855.8 | 申请日: | 2017-06-08 |
| 公开(公告)号: | CN107020568A | 公开(公告)日: | 2017-08-08 |
| 发明(设计)人: | 时庆文;周伟杰;裴立志 | 申请(专利权)人: | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号: | B24B31/00 | 分类号: | B24B31/00;B24B31/12;B24B41/06 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 王宝筠 |
| 地址: | 516600 广东省汕*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 盖板 制备 系统 方法 | ||
1.一种盖板制备系统,其特征在于,包括:悬浊液容器、转动装置和基材夹具;其中,
所述悬浊液容器用于盛放悬浊液,所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液,所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度;
所述基材夹具设置于所述悬浊液容器的上方,用于固定所述基材一侧表面,和用于将所述基材浸入所述悬浊液或从所述悬浊液中取出;
所述转动装置设置于所述悬浊液容器底部,用于带动所述悬浊液转动,以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述转动装置工作时,所述转动装置在所述悬浊液容器底部的投影完全覆盖所述基材在所述悬浊液容器底部的投影。
3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘;
所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动;
所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动。
4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,所述第一转动转盘还用于每隔第一预设时间改变转动方向。
5.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向。
6.根据权利要求3-5任一项所述的系统,其特征在于,所述第一时针方向为顺时针方向;
所述第二时针方向为逆时针方向。
7.一种盖板制备方法,其特征在于,应用于权利要求1-6任一项所述的盖板制备系统,所述盖板制备系统包括:悬浊液容器、转动装置和基材夹具;所述盖板制备方法包括:
提供基材,并在所述悬浊液容器中倒入悬浊液;
利用所述基材夹具吸附所述基材,并将所述基材的待处理表面浸入所述悬浊液中,所述悬浊液为预设材料颗粒的悬浊液,所述预设材料颗粒的莫氏硬度大于基材的莫氏硬度;
利用所述转动装置带动所述悬浊液转动,以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,当所述转动装置包括第一转动转盘和位于所述第一转动转盘内部的至少一个第二转动转盘;
所述第一转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动;
所述第二转动转盘用于沿第一时针方向或第二时针方向转动时,所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动,以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括:
利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动;
利用所述第二转账转盘沿所述第一转动转盘转动方向的反方向转动,以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,当所述第一转动转盘还用于每隔第一预设时间改变转动方向,所述第二转动转盘还用于每隔第二预设时间改变转动方向时,所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动,以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨包括:
利用所述第一转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动,并每隔第一预设时间改变转动方向;
利用所述第二转动转盘沿第一时针方向或第二时针方向转动,并每隔第二预设时间改变转动方向,以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨。
10.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,当所述基材为玻璃时,所述预设材料颗粒为氧化铝颗粒或碳化硅颗粒或氧化铝与碳化硅的混合物颗粒。
11.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述利用所述转动装置带动所述悬浊液转动,以利用所述悬浊液对所述基材进行研磨之后还包括:
对所述基材进行光化过程。
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