[发明专利]掩膜板、其制作方法和利用其进行蒸镀方法有效
申请号: | 201710428142.1 | 申请日: | 2017-06-08 |
公开(公告)号: | CN107099770B | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 王有为;张嵩;孙韬;宋平;蔡鹏;郭远征 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王晓燕 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜板 制作方法 利用 进行 方法 | ||
1.一种掩膜板,包括开口板,其中,
所述开口板包括开口以及位于所述开口之外的遮挡部,并且
所述遮挡部中设置有凹槽,所述凹槽的深度小于所述遮挡部的厚度;
所述掩膜板为用于蒸镀工艺的蒸镀掩膜板,并且所述凹槽为用于与所述蒸镀工艺中的待蒸镀基板的围堰之间形成空隙的凹槽;
所述凹槽被配置为使所述凹槽的凹陷表面与所述围堰的面向所述凹槽的端部之间形成所述空隙;所述遮挡部包括位于相邻开口之间的部分,所述部分包括位于相邻凹槽之间的第一部分和位于凹槽和开口之间的两个第二部分,所述第一部分的宽度和所述第二部分的宽度都大于所述凹槽的宽度。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其中,所述凹槽为闭合的环形凹槽。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其中,所述遮挡部中还设置有凹陷的对位标记,所述凹槽不同于该对位标记。
4.根据权利要求1所述的掩膜板,其中,所述凹槽到所述开口之间的距离大于或等于100微米。
5.根据权利要求1所述的掩膜板,其中,所述凹槽的槽宽大于40微米。
6.根据权利要求1所述的掩膜板,其中,所述凹槽的深度大于3.5微米且小于100微米。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的掩膜板,其中,所述遮挡部包括相对设置的第一表面和第二表面,所述开口贯穿所述第一表面和所述第二表面,所述凹槽的凹陷表面与所述第二表面相对,并且所述第一表面在所述开口与所述凹槽之间的部分为平面。
8.根据权利要求1-6中任一项所述的掩膜板,其中,
所述开口板包括多个所述开口,所述遮挡部中设置有多个所述凹槽,并且所述多个凹槽与所述多个开口一一对应。
9.根据权利要求8所述的掩膜板,其中,相邻的所述开口之间的距离大于200微米。
10.根据权利要求1-6中任一项所述的掩膜板,还包括框架,其中,所述框架包括镂空部和环绕所述镂空部的边框,所述开口和所述凹槽都对应于所述镂空部,所述遮挡部与所述边框连接。
11.一种掩膜板的制作方法,包括:
形成开口板,其中,所述开口板包括开口和位于所述开口之外的遮挡部,所述遮挡部中设置有凹槽,所述凹槽的深度小于所述遮挡部的厚度;所述掩膜板为用于蒸镀工艺的蒸镀掩膜板,并且所述凹槽为用于与所述蒸镀工艺中的待蒸镀基板的围堰之间形成空隙的凹槽;所述掩膜板在位于用于面向所述待蒸镀基板的一面的所述凹槽处是凹陷的;
其中,所述凹槽被配置为使所述凹槽的凹陷表面与所述围堰的面向所述凹槽的端部之间形成所述空隙;所述遮挡部包括位于相邻开口之间的部分,所述部分包括位于相邻凹槽之间的第一部分和位于凹槽和开口之间的两个第二部分,所述第一部分的宽度和所述第二部分的宽度都大于所述凹槽的宽度。
12.根据权利要求11所述的制作方法,其中,通过刻蚀的方式形成所述凹槽。
13.根据权利要求11或12所述的制作方法,其中,
将用于形成所述开口板的初始开口板安装在框架上,其中,所述初始开口板包括所述开口和位于所述开口之外的初始遮挡部,所述初始遮挡部用于形成所述遮挡部并且所述初始遮挡部中设置有所述凹槽,所述框架包括镂空部和环绕所述镂空部的边框,所述初始开口板的开口对应于所述镂空部,所述初始开口板的初始遮挡部与所述边框连接;以及
去掉所述初始遮挡部的至少部分边缘。
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