[发明专利]双氧水稳定剂及包含其的蚀刻组合物

权利要求书

1.一种铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，包含：10重量百分比至30重量百分比的过氧化氢；0.01重量百分比至5重量百分比的蚀刻抑制剂；0.1重量百分比至5重量百分比的螯合剂；0.1重量百分比至5重量百分比的己胺以及作为余量的水；

所述蚀刻抑制剂为恶唑、咪唑、吡唑、三唑、四唑、氨基四唑、甲基四唑、苯并咪唑、苯并吡唑、甲基苯并三唑、氢甲基苯并三唑、羟基甲基苯并三唑、吲哚、嘌呤、吡啶、嘧啶、吡咯或吡咯啉。

2.根据权利要求1所述的铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，所述螯合剂在分子内包含氨基、羧酸基或膦酸基。

3.根据权利要求2所述的铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，所述螯合剂为选自亚氨基二乙酸、次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三腈五乙酸、氨基三(亚甲基膦酸)、(1-羟基乙烷-1，1-二基)双(膦酸)、乙二胺四(亚甲基膦酸)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸及甘氨酸中的一种或两种以上。

4.根据权利要求1所述的铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，所述蚀刻组合物还包含选自蚀刻添加剂、氟化合物及侧蚀抑制剂中的一种或两种以上。

5.根据权利要求4所述的铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，所述蚀刻添加剂为无机酸、有机酸、无机酸盐、有机酸盐或它们的混合物。

6.根据权利要求5所述的铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，所述无机酸为硫酸、硝酸或磷酸，所述有机酸为乙酸、甲酸、丁酸、柠檬酸、乙醇酸、草酸、丙二酸、戊酸、丙酸、酒石酸、葡糖酸、羟基乙酸或琥珀酸，所述无机酸盐或有机酸盐为磷酸氢二钾、磷酸二氢钠、磷酸氢二铵、磷酸钾、过磷酸钾、磷酸铵或过磷酸铵。

7.根据权利要求4所述的铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，所述氟化合物为选自HF、NaF、KF、AlF₃、HBF₄、NH₄F、NH₄HF₂、NaHF₂、KHF₂及NH₄BF₄中的一种或两种以上。

8.根据权利要求4所述的铜膜、铜/钼膜、铜/钛膜、铜/钼合金膜或铜/铟合金膜用蚀刻组合物，其特征在于，所述侧蚀抑制剂为选自腺嘌呤、鸟嘌呤、次黄嘌呤、黄嘌呤、可可碱、咖啡因、异鸟嘌呤及尿酸中的一种或两种以上。