[发明专利]基板清洗方法与清洗设备

说明书

本发明公开了一种清洗设备，包括第一腔室、移动元件、滚轮组、承接元件及喷管元件。移动元件位于第一腔室内。滚轮组容置于第一腔室，承接元件位于第一腔室内，承接元件用以承接移动元件所传送的基板。喷管元件位于第一腔室内，且喷管元件位于承接元件之下，喷管元件用以朝承接元件的镂空部内的基板的下表面喷洒液体。此外，一种基板清洗方法亦被提出。

技术领域

本发明是有关于一种制程方法与制程设备，且特别是有关于一种基板清洗方法与清洗设备。

背景技术

于现代高科技产业的制造的过程中，基板经过如清洗、蚀刻、涂布、显影、干燥等多道工序来制造，所述各制造工序中均设有输送装置，如此便可借由输送装置将基板输送至各道制造工序的位置，并进行相关制程加工。

在制程基板之前，需先经过清洗基板的动作，为因应制程所需，必须防止基板的某一面(用来制程的制程面)被清洗，故只能清洗基板的另一面(非制程面)，然现有机制中均为清洗基板的相对两面。

因此，如何达到上述清洗基板的单一表面，为目前业界的重要课题。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明的一目的在于，能达到清洗基板的单一表面。

本发明提供一种基板清洗方法，该基板清洗方法适用于一清洗设备，该清洗设备包含一滚轮组、至少一喷管元件、至少一移动元件以及一承接元件，该滚轮组于一输送位置上输送一基板，该输送位置为该滚轮组位于该移动元件的一移动行程的一第一位置上，一移出位置为该滚轮组离开该移动行程，该移动元件沿该移动行程将该基板于该第一位置、一第二位置及一第三位置之间移动，该第二位置高于该第一位置，该第三位置低于该第一位置，该承接元件设于该第三位置，且该承接元件具有一镂空部，该基板清洗方法包括以下步骤：

借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第一位置上移至该第二位置；

该滚轮组由该输送位置移动至该移出位置；

借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第二位置下移至该第三位置中的该承接元件；以及

该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体。

其中，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体的步骤后，还包括以下步骤：

借由该移动元件将该基板沿该移动行程由该第三位置上移至该第二位置；

该滚轮组由该移出位置移动至该输送位置；以及

借由该移动元件将该基板沿该移动行程由该第二位置下移至该第一位置，使该基板位于该滚轮组上。

其中，进行该滚轮组由该输送位置移动至该移出位置的步骤后，还包括以下步骤：

清洗该滚轮组。

其中，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体的步骤之前，还包括以下步骤：

一盖体遮盖该基板的一上表面。

其中，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体的步骤后，还包括以下步骤：

该盖体脱离该基板的该上表面。

其中，进行一盖体遮盖该基板的一上表面的步骤后，还包括以下步骤：

于该盖体内朝该基板的该上表面提供一气流。

其中，进行借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第一位置上移至该第二位置之前，还包括以下步骤：

借由该滚轮组将该基板移动至该第一位置。

本发明还提供一种清洗设备，包括：