[发明专利]基板清洗方法与清洗设备

权利要求书

1.一种基板清洗方法，该基板清洗方法适用于一清洗设备，其特征在于，该清洗设备包含一滚轮组、至少一喷管元件、至少一移动元件以及一承接元件，该滚轮组于一输送位置上输送一基板，该输送位置为该滚轮组位于该移动元件的一移动行程的一第一位置上，一移出位置为该滚轮组离开该移动行程，该移动元件沿该移动行程将该基板于该第一位置、一第二位置及一第三位置之间移动，该第二位置高于该第一位置，该第三位置低于该第一位置，该承接元件设于该第三位置，且该承接元件具有一镂空部，该基板清洗方法包括以下步骤：

借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第一位置上移至该第二位置；

该滚轮组由该输送位置移动至该移出位置；

借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第二位置下移至该第三位置中的该承接元件；以及

该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体。

2.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体的步骤后，还包括以下步骤：

借由该移动元件将该基板沿该移动行程由该第三位置上移至该第二位置；

该滚轮组由该移出位置移动至该输送位置；以及

借由该移动元件将该基板沿该移动行程由该第二位置下移至该第一位置，使该基板位于该滚轮组上。

3.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该滚轮组由该输送位置移动至该移出位置的步骤后，还包括以下步骤：

清洗该滚轮组。

4.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体的步骤之前，还包括以下步骤：

一盖体遮盖该基板的一上表面。

5.如权利要求4所述的基板清洗方法，其特征在于，进行该喷管元件朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体的步骤后，还包括以下步骤：

该盖体脱离该基板的该上表面。

6.如权利要求4所述的基板清洗方法，其特征在于，进行一盖体遮盖该基板的一上表面的步骤后，还包括以下步骤：

于该盖体内朝该基板的该上表面提供一气流。

7.如权利要求1所述的基板清洗方法，其特征在于，进行借由该移动元件将该基板沿着该移动行程由该第一位置上移至该第二位置之前，还包括以下步骤：

借由该滚轮组将该基板移动至该第一位置。

8.一种清洗设备，其特征在于，包括：

一第一腔室；

一移动元件，位于该第一腔室内，该移动元件沿一移动行程将基板于一第一位置、一第二位置及一第三位置之间移动，其中该第二位置高于该第一位置，该第三位置低于该第一位置；

一滚轮组，容置于该第一腔室，该滚轮组具有一输送位置及一移出位置，该输送位置为该滚轮组位于该移动行程的该第一位置上，该移出位置为该滚轮组离开该移动行程；

一承接元件，位于该第一腔室内，且该承接元件设于该第三位置，该承接元件具有一镂空部，该承接元件用以承接该移动元件所传送的该基板；以及

至少一喷管元件，位于该第一腔室内，且该至少一喷管元件位于该承接元件之下，该喷管元件用以朝该承接元件的该镂空部内的该基板的一下表面喷洒液体。

9.如权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，还包括：

一清洗元件，位于该第一腔室内，该清洗元件用以清洗该滚轮组。

10.如权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，还包括：

一盖体，位于该第一腔室内，该盖体用以遮盖该基板的一上表面。

11.如权利要求10所述的清洗设备，其特征在于，还包括：

一气流元件，位于该盖体内，该气流元件于该盖体内朝该基板的该上表面提供一气流。

12.如权利要求8所述的清洗设备，其特征在于，还包括：

一第二腔室，承接并清洗来自该第一腔室所输送的该基板；以及

一第三腔室，承接来自该第二腔室所输送的该基板，该第三腔室用以提供一气流以吹干该基板。