[发明专利]一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法

说明书

一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，包括步骤：（1）根据首个阵列标记，以及阵列标记的行数，得到对应行数的一维列阵列标记；（2）根据一维列阵列标记的行间距，以及阵列标记的列数，得到对应行间距的二维阵列标记；（3）根据阵列标记的列间距，得到对应列间距的二维阵列标记。本发明的在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，根据用户的需求，按照指定的创建位置、间距以及方向，一次性完成所有阵列标记的创建，提高了用户的工作效率，加速了芯片的制造速度，并且还能够防止创建标记时出现偏差，造成signoff（流片）时的电气规则检查错误。

技术领域

本发明涉及EDA工具中版图设计技术领域，特别是涉及一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法。

背景技术

版图设计是集成电路设计中最为重要、最为关键的步骤，直接决定着整个芯片设计的成败。在集成电路版图设计过程中，对触摸屏版图进行ERC（电气规则检查）检查时，需要把阵列Label（标记）打在每个触控单元上，触控单元一般是XX*XX个的矩阵形式，而用户采用操作则会产生错位的问题，并且版图设计效率低下。因此，需要提出一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，能够根据用户的需求，按照指定的方向，一次性完成所有Label的创建。

发明内容

为了解决现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，能够快速有效地创建阵列标记，极大地降低用户的工作量，还能够有效地避免用户手工操作带来的错位问题，提高版图设计的效率。

为实现上述目的，本发明提供的在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法，包括以下步骤：

（1）根据首个阵列标记，以及阵列标记的行数，得到对应行数的一维列阵列标记；（2）根据一维列阵列标记的行间距，以及阵列标记的列数，得到对应行间距的二维阵列标记；（3）根据阵列标记的列间距，得到对应列间距的二维阵列标记。

进一步地，所述步骤（1）是将首个阵列标记，以及阵列标记的行数代入阵列一维计算模块中，得到对应行数的一维列阵列标记；

所述阵列一维计算模块，是基于数学公式(Y1-Y0)*1、(Y2-Y1)*2、(Y3-Y2)*3……(Yn-Y(n-1))*n建立的数学计算模型，

其中，“Y1”为第1行阵列标记的Y方向坐标，“Y0”为第0行阵列标记的Y方向坐标，“Y3”为第3行阵列标记的Y方向坐标，“Y2”为第2行阵列标记的Y方向坐标，……，“Yn”为第n行阵列标记的Y方向坐标，“Y(n-1)”为第n-1行阵列标记的Y方向坐标，“n”为阵列标记的Y方向的行数。

进一步地，所述步骤（2）是将一维列阵列标记的行间距代入阵列一维计算模块中，以及将阵列标记的列数代入阵列二维计算模块中，得到对应行间距的二维阵列标记；

所述阵列二维计算模块，是基于数学公式(X1-X0)*1、(X2-X1)*2、(X3-X2)*3……(Xm-X(m-1))*m建立的数学计算模型，

其中，“X1”为第1列阵列标记的X方向坐标，“X0”为第0列阵列标记的X方向坐标，“X3”为第3列阵列标记的X方向坐标，“X2”为第2列阵列标记的X方向坐标，……，“Xm”为第m列阵列标记的X方向坐标，“X(m-1)”为第m-1列阵列标记的X方向坐标，“m”为阵列标记的X方向的列数。

进一步地，所述步骤（3）是将阵列标记的列间距代入阵列二维计算模块中，得到对应列间距的二维阵列标记。

进一步还包括步骤：根据一维阵列标记之间的夹角，得到非正交模式阵列标记。

进一步地，所述根据一维阵列标记之间的夹角，得到非正交模式阵列标记是，将一维阵列标记之间的夹角代入阵列模型(ΔX，ΔY)*k中，得到非正交模式阵列标记，