[发明专利]一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法有效
| 申请号: | 201710417343.1 | 申请日: | 2017-06-06 |
| 公开(公告)号: | CN107203671B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
| 发明(设计)人: | 冯小辉;刘伟平;张春阳;李起宏;谢光益 | 申请(专利权)人: | 北京华大九天软件有限公司 |
| 主分类号: | G06F30/31 | 分类号: | G06F30/31 |
| 代理公司: | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人: | 王金双 |
| 地址: | 100102 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 集成电路 版图 快速 创建 阵列 标记 方法 | ||
1.一种在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)根据首个阵列标记,以及阵列标记的行数,得到对应行数的一维列阵列标记;
(2)根据一维列阵列标记的行间距,以及阵列标记的列数,得到对应行间距的二维阵列标记;
所述步骤(2)是将一维列阵列标记的行间距代入阵列一维计算模块中,以及将阵列标记的列数代入阵列二维计算模块中,得到对应行间距的二维阵列标记;
所述阵列二维计算模块,是基于数学公式(X1-X0)*1、(X2-X1)*2、(X3-X2)*3……(Xm-X(m-1))*m建立的数学计算模型,
其中,“X1”为第1列阵列标记的X方向坐标,“X0”为第0列阵列标记的X方向坐标,“X3”为第3列阵列标记的X方向坐标,“X2”为第2列阵列标记的X方向坐标,……,“Xm”为第m列阵列标记的X方向坐标,“X(m-1)”为第m-1列阵列标记的X方向坐标,“m”为阵列标记的X方向的列数;
(3)将阵列标记的列间距代入阵列二维计算模块中,得到对应列间距的二维阵列标记。
2.根据权利要求1所述在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,其特征在于,所述步骤(1)是将首个阵列标记,以及阵列标记的行数代入阵列一维计算模块中,得到对应行数的一维列阵列标记;
所述阵列一维计算模块,是基于数学公式(Y1-Y0)*1、(Y2-Y1)*2、(Y3-Y2)*3……(Yn-Y(n-1))*n建立的数学计算模型,
其中,“Y1”为第1行阵列标记的Y方向坐标,“Y0”为第0行阵列标记的Y方向坐标,“Y3”为第3行阵列标记的Y方向坐标,“Y2”为第2行阵列标记的Y方向坐标,……,“Yn”为第n行阵列标记的Y方向坐标,“Y(n-1)”为第n-1行阵列标记的Y方向坐标,“n”为阵列标记的Y方向的行数。
3.根据权利要求1所述在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,其特征在于,进一步还包括步骤:根据一维阵列标记之间的夹角,得到非正交模式阵列标记。
4.根据权利要求3所述在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,其特征在于,所述根据一维阵列标记之间的夹角,得到非正交模式阵列标记是,将一维阵列标记之间的夹角代入阵列模型(ΔX,ΔY)*k中,得到非正交模式阵列标记,
其中,“ΔX”为阵列标记的X方向相对坐标,“ΔY”为阵列标记的Y方向相对坐标,“k”为阵列标记的坐标数值。
5.根据权利要求1所述在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,其特征在于,还包括步骤:为阵列标记配置BBox盒子,创建标记时,先将标记放入BBox盒子中。
6.根据权利要求5所述在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,其特征在于,进一步还包括步骤:在BBox盒子中以九宫格的形式显现预设的首个阵列标记在预创建的阵列标记中的初始位置。
7.根据权利要求5所述在集成电路版图中快速创建阵列标记的方法,其特征在于,进一步还包括步骤:计算出阵列标记的BBox大小,作为预创建的阵列标记的范围,再选中触控单元中预创建阵列标记的位置,在版图中显现阵列标记。
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