[发明专利]光催化剂CdS‑NiS纳米复合材料的制备方法

权利要求书

1.一种光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤（1）、将0.8-2g巯基苯并噻唑合镉放入50 -100 mL的高沸点有机溶剂中，加热溶解得到均一溶液，持续加热至使巯基苯并噻唑合镉热分解，冷却，洗涤离心后得到固体产物，则为CdS；

步骤（2）、将步骤（1）中所得产物加入到20-80 mL饱和硫化钠溶液中，水浴加热并持续搅拌，然后对产物用无水乙醇除去多余的硫离子并离心，得到离心产物；

步骤（3）、取步骤（2）得到的离心产物分散到水中，然后与可溶性镍盐溶液混合，持续搅拌使其充分反应后，离心洗涤，烘干，得到复合金属硫化物CdS-NiS。

2.根据权利要求1所述的光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中巯基苯并噻唑合镉在高沸点有机溶剂中的溶解温度为100-140℃。

3.根据权利要求1所述的光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，高沸点有机溶剂为油酸或油胺，其沸点高于巯基苯并噻唑合镉的分解温度。

4.根据权利要求1所述的光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，巯基苯并噻唑合镉的分解反应温度为270℃-300℃，反应时间为5-60 min。

5.根据权利要求1所述的光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，分解反应后冷却温度至20-40℃。

6.根据权利要求1所述的光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中，水浴温度为60-70℃。

7.根据权利要求1所述的光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中，与可溶性镍盐溶液混合在60℃-70℃的温度下进行。

8.根据权利要求1所述的CdS-CuS纳米复合光催化剂的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中可溶性镍盐为氯化镍，醋酸镍或硝酸镍。

9.根据权利要求1所述的光催化剂CdS-NiS纳米复合材料的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中，烘干温度为40-60℃。