[发明专利]一种5‑溴嘧啶化合物的制备方法在审

专利信息
申请号: 201710405676.2 申请日: 2017-06-01
公开(公告)号: CN107163023A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 邓泽平;陈芳军 申请(专利权)人: 湖南华腾制药有限公司
主分类号: C07D401/04 分类号: C07D401/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410205 湖南省长沙市高新开*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 嘧啶 化合物 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种制备(1-(5-溴嘧啶-2-基)哌啶-3-基)甲胺的方法,以N-Boc-3-哌啶甲酸为起始原料,经过酯化、还原、缩合、取代、脱叔丁氧羰基保护、缩合、还原得到目标产物8,合成路线如下,

2.根据权利要求1的方法,其特征为所述的7步反应是,

(1)以N-Boc-3-哌啶甲酸为起始原料,经过酯化反应得到2;

(2)把2进行还原反应,得到3;

(3)把3进行缩合反应得到4;

(4)把4进行取代反应得到5,

(5)把5进行脱叔丁氧羰基保护反应得到6,

(6)把6进行缩合反应得到7,

(7)把7进行还原反应得到8,

3.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反应制备化合物2所用的甲基化试剂选自原甲酸三甲酯、硫酸二甲酯、碘甲烷中的一种或几种的混合物;所述的还原反应制备化合物3所用的还原剂选自硼氢化钠、硼氢化钾、硼氢化锂、氰基硼氢化钠、氢化锂铝、硼烷中的一种或几种的混合物;所述的缩合反应制备化合物4所用的碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、碳酸钠、碳酸钾、三乙胺、碳酸氢钠、吡啶、三异丙基胺、碳酸氢钾中的一种或几种的混合物;所述的取代反应制备化合物5所用的试剂选自叠氮化钠;所述的脱叔丁氧羰基保护反应制备化合物6所用的脱保护剂选自氯化氢、硫酸、对甲苯磺酸、三氟乙酸中的一种或几种的混合物;所述的缩合反应制备化合物7所用的碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、碳酸钠、碳酸钾、三乙胺、碳酸氢钠、吡啶、三异丙基胺、碳酸氢钾中的一种或几种的混合物;所述的还原反应制备化合物8所用的还原剂选自硼氢化钠、硼氢化钾、硼氢化锂、氰基硼氢化钠、氢化锂铝、硼烷中的一种或几种的混合物。

4.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反应制备化合物2所用的溶剂选自甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种或几种的混合物;所述的还原反应制备化合物3所用的溶剂选自甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、水中的一种或几种的混合物;所述的缩合反应制备化合物4所用的溶剂选自四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、中的一种或几种的混合物;所述的取代反应制备化合物5所用的溶剂选自四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种或几种的混合物;所述的脱叔丁氧羰基保护反应制备化合物6所用的溶剂选自四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种或几种的混合物;所述的缩合保护反应制备化合物7所用的溶剂选自四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、乙酸乙酯、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种或几种的混合物;所述的还原反应制备化合物8所用的溶剂选自甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、四氢呋喃、二氯甲烷、甲苯、邻二甲苯、对二甲苯、间二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺中的一种或几种的混合物。

5.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反应制备化合物2所用的反应温度是0℃~溶剂的回流温度;所述的还原反应制备化合物3所用的温度是0℃~室温;所述的缩合反应制备化合物4所用的温度是0℃~溶剂的回流温度;所述的取代反应制备化合物5所用的温度是0℃~溶剂的回流温度;所述的脱叔丁氧羰基保护反应制备化合物6所用的温度是0℃~室温;所述的缩合保护反应制备化合物7所用的温度是0℃~溶剂的回流温度;所述的还原反应制备化合物8所用的温度是0℃~溶剂的回流温度。

6.根据权利要求1的方法,其特征在于,所述的酯化反应制备化合物2所用的反应温度是室温;所述的还原反应制备化合物3所用的温度是室温;所述的缩合反应制备化合物4所用的温度是溶剂的回流温度;所述的取代反应制备化合物5所用的温度是溶剂的回流温度;所述的脱叔丁氧羰基保护反应制备化合物6所用的温度是室温;所述的缩合保护反应制备化合物7所用的温度是溶剂的回流温度;所述的还原反应制备化合物8所用的温度是室温。

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