[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示设备领域，特别是涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

随着有机发光二极管(OLED)越来越来多的运用于显示设备中，有机发光二极管显示技术在保证显示设备亮度的情况下也不断向着高解析度趋势发展。

随着有机发光二极管显示器解析度的提高，所述显示器的像素之间的间距越来越小，这就导致所述显示设备容易产生漏光现象。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种显示基板，能够增加所述显示基板的像素定义层的高度，进而解决其漏光问题而又不影响所述显示基板的发光视角。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种显示基板，所述显示基板包括基板、像素定义层以及有机发光功能层；所述像素定义层定义出多个间隔的像素区，使得所述像素区形成凹槽，所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层；所述第一像素定义层设置在所述基板的一侧；所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧；所述有机发光功能层填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面；其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种显示基板的制造方法，包括准备基板、形成像素定义层以及形成有机发光功能层；

所述准备基板包括准备玻璃基板以及在所述玻璃基板表面形成ITO层；

所述像素定义层定义出多个间隔的像素区，使得所述像素区形成凹槽，所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层；述第一像素定义层设置在所述基板的一侧；所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧；

所述有机发光功能层填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面；其中，所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明通过增加一层像素定义层(第二像素定义层)，增加了有机发光功能层中电荷的横向传输路径，减少了漏光现象的产生；同时所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间，可以解决像素定义层影响显示设备的可视角度问题。

附图说明

图1是本发明显示基板一实施例的结构示意图；

图2是图1显示基板在A-A'方向上剖面一实施例的结构示意图；

图3是图1显示基板在A-A'方向上剖面另一实施例的结构示意图；

图4是图1显示基板在A-A'方向上剖面又一实施例的结构示意图；

图5是图1显示基板在A-A'方向上剖面再一实施例的结构示意图；

图6是是本发明显示基板的制备方法一实施例的流程示意图。

具体实施方式

为使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例的技术方案作进一步的详细描述。

请参阅图1和图2，其中图1是实施例一的显示基板的结构示意图，图2是图1显示基板在A-A方向上的剖面一实施方式的结构示意图。

参阅图1，本实施方式的显示基板10包括基板20、像素定义层21以及有机发光功能层22，设置所述显示基板10的发光区域DA。所述基板20包括玻璃基板201以及氧化铟锡层(ITO层，以下简称ITO层)202，所述ITO层设置在所述玻璃基板的一侧。

所述像素定义层21包括第一像素定义层211以及第二像素定义层212，所述第一像素定义层211设置在所述ITO层202背对所述玻璃基板201的一侧；所述第二像素定义层212设置在所述第一像素定义区211背对所述ITO层202的一侧；所述有机发光功能层22覆盖在所述像素定义区21表面，并填充在所述像素定义区21与所述基板20形成的凹槽中，且设置在所述凹槽中的所述有机发光功能层被设置在所述ITO层的表面；

其中，所述第二像素定义层212位于所述第一像素定义层211侧壁所定义平面2111与所述基板20所定义平面2021之间。在其他实施方式中，若第二像素定义层是曲面的情况下，该第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义曲面与所述基板所定义平面之间，在此不做限定。

其中，所述第一像素定义层211的竖截面为梯台，在其他实施方式中，该截面还可以为半圆或者椭圆所述第二像素定义层212是所述第一像素定义层211背对所述基板一面凸起的凸台。