[发明专利]显示基板及其制造方法、显示装置在审
申请号: | 201710404964.6 | 申请日: | 2017-06-01 |
公开(公告)号: | CN107359258A | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 刘扬 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
基板;
像素定义层,定义出多个间隔的像素区,使得所述像素区形成凹槽,
所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层;所述第一像素定义层设置在所述基板一侧;所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧;以及
有机发光功能层,填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面;
所述有机发光二极管层覆盖在所述像素定义层表面,并填充在所述像素定义层与所述基板形成的凹槽中;
其中,所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,
所述第一像素定义层的竖截面为梯台,所述第二像素定义层是所述第一像素定义层背对所述基板一面凸起的凸台。
3.根据权利要求1~2所述的显示基板,其特征在于,
所述第二像素定义层侧壁相对所述第一像素定义层相应侧壁向内凹陷/倾斜,使得覆盖所述第二像素定义层侧壁的有机发光功能层部分相对覆盖所述第一像素定义层侧壁的有机发光功能层部分向内凹陷/倾斜。
4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,
填充于所述凹槽内的所述有机发光功能层厚度大于所述覆盖在所述像素定义层上的接触面的所述有机发光功能层厚度。
5.根据权利要求1至4任一项所述的显示基板,其特征在于,
所述第一像素定义层与所述第二像素定义层采用相同/不同的光阻材料。
6.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:
准备基板;
形成像素定义层,所述像素定义层定义出多个间隔的像素区,使得所述像素区形成凹槽,所述像素定义层包括第一像素定义层与第二像素定义层;所述第一像素定义层设置在所述基板一侧;所述第二像素定义层设置在所述第一像素定义层背对所述基板的一侧;以及
形成有机发光功能层,所述有机发光功能层填充所述凹槽及所述凹槽之间的所述像素定义层表面;
其中,所述第二像素定义层位于所述第一像素定义层侧壁所定义平面/曲面与所述基板所定义平面之间。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,
制造所述像素定义层使用的材料包括聚酰亚胺、亚克力、酚醛树脂基材料中的至少一种。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,
所述形成像素定义层包括:
采用透光率渐变的光罩一次性制造所述第一像素定义层与所述第二像素定义层,其中对应所述第二像素定义层的光罩区域透光率不同于所述第一像素定义层未被所述第二像素定义层覆盖的区域所对应的光罩区域透光率。
9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,
制造所述第一像素定义层所使用的光阻材料是正向光阻材料,制造所述第二像素定义层所使用的光阻材料是负向光阻材料;或者,制造所述第一像素定义层所使用的光阻材料是负向光阻材料,制造所述第二像素定义层所使用的光阻材料是正向光阻材料。
10.一种显示装置,其特征在于,包括,其包括如权利要求1-5任一项所述的显示基板或采用如权利要求6-9任一项所述方法制备得到的显示基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择