[发明专利]气体分析装置在审
申请号: | 201710397564.7 | 申请日: | 2017-05-31 |
公开(公告)号: | CN107621459A | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 赤尾幸造;谷口裕 | 申请(专利权)人: | 富士电机株式会社 |
主分类号: | G01N21/3504 | 分类号: | G01N21/3504 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 万捷 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 分析 装置 | ||
1.一种气体分析装置,其特征在于,具备:
照射部,该照射部对烟道内流通的分析对象气体照射激光;
受光部,该受光部与所述照射部相对配置为将所述烟道夹持,接受通过所述分析对象气体后的所述激光;以及
一体型的筒,该筒配置在所述照射部和所述受光部之间,以供所述激光通过内部,在所述烟道内形成有面向所述分析对象气体的上游侧的第一孔和面向所述分析对象气体的下游侧的第二孔。
2.权利要求1所述的气体分析装置,其特征在于,具备:
照射部侧导入部,该照射部侧导入部从所述筒的照射部侧的端部向所述筒内导入吹扫气体;
受光部侧导入部,该受光部侧导入部从所述筒的受光部侧的端部向所述筒内导入吹扫气体。
3.权利要求1或2所述的气体分析装置,其特征在于,
所述第二孔在所述分析对象气体的下游侧配置为与所述第一孔相对,且开口面积比所述第一孔大。
4.权利要求1到3的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
所述第一孔及所述第二孔具有沿着所述筒的长度方向延伸的长轴。
5.权利要求1到4的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
还具备与所述筒隔开距离而形成且部分覆盖所述第一孔的盖部。
6.权利要求5所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部覆盖具有沿着所述筒的长度方向延伸的长轴的所述第一孔的长轴方向上的中央部,而未覆盖所述第一孔的长轴方向上的端部。
7.权利要求5所述的气体分析装置,其特征在于,
在所述盖部形成供所述分析对象气体通过的孔部。
8.权利要求7所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部覆盖整个所述第一孔,在所述盖部形成所述孔部。
9.权利要求7或8所述的气体分析装置,其特征在于,
在所述盖部形成多个所述孔部。
10.权利要求5到9的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部分割为多个。
11.权利要求5到10的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部的下端比所述第一孔延伸得更靠下侧。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士电机株式会社,未经富士电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710397564.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。