[发明专利]一种蒸镀坩埚和蒸镀设备在审

专利信息
申请号: 201710391366.X 申请日: 2017-05-27
公开(公告)号: CN107058958A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 罗程远;申永奇 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 刘悦晗,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 坩埚 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及设备制造领域,特别涉及一种蒸镀坩埚和蒸镀设备。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示面板由于同时具备高色域、厚度薄和可弯曲等优势,逐渐受到了广泛的关注。尤其是曲面OLED和柔性OLED,其独特的性能和优秀的用户体验受到了众多用户的青睐。真空蒸镀是OLED制程中用于制备有机发光层的主要工艺,真空蒸镀是在一定的真空环境下加热有机发光材料,使有机发光材料蒸发并凝结在基板的表面,以形成相应薄膜。蒸镀坩埚是真空蒸镀工艺的关键组件,如图1所示,现有蒸镀坩埚包括本体1和盖体2,本体1为中空腔体,用于容置蒸镀材料3。盖体2设置于本体1的顶端,且中部设置有开口4,盖体2能够有效的防止外部的污染源污染内部的蒸镀材料3,还能够有效的防止由于温度不均所导致的周边的蒸镀材料3喷溅。

在蒸镀过程中,本体1的外壁将热量传导至蒸镀材料3,使蒸镀材料3受热蒸发,且从盖体2的开口4处蒸发出。但是,本体1的外壁与开口4的距离较远,当热量传递到开口4处时已大量流失,导致开口4处的温度较低,从而蒸镀材料3容易冷凝并堆积在开口4,使开口4的孔径逐渐变小,导致蒸镀材料3的蒸发速率不稳定。而且,越邻近本体1的外壁的蒸镀材料3,所接收到的热量较多,相应越先蒸发,与开口4的距离越近的蒸镀材料3,从开口4蒸发出的概率越大,相应越先从开口4蒸发出,因此,在蒸镀一段时间后,如图1所示,蒸镀材料3为三角形,越邻近本体中部,且越远离开口4的蒸镀材料3越后从开口4蒸发出,后蒸发出的蒸镀材料3受热时间较长,容易变质,从而影响真空蒸镀工艺成膜的质量。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述不足,提供一种蒸镀坩埚和蒸镀设备,用以至少部分解决现有蒸镀坩埚的蒸发速率不稳定,以及成膜质量不佳的问题。

为实现上述目的,本发明提供一种蒸镀坩埚,包括本体和具有开口的盖体,所述盖体设置于所述本体的顶部,所述蒸镀坩埚还包括导热柱,所述导热柱设置在所述本体的底壁上,且所述导热柱的顶端位于所述开口的位置。

优选的,所述开口位于所述盖体的中部,且所述导热柱位于所述本体的底壁的中部。

优选的,在从所述本体的底壁到所述盖体的方向上,所述导热柱的横截面积逐渐减小。

优选的,所述导热柱的顶面和底面为多边形。

优选的,所述多边形的各边均为弧线,且各所述弧线的圆心与所述多边形的中心位于各所述弧线的两侧。

优选的,所述多边形为三角形或四边形。

优选的,所述导热柱的各侧壁均为抛物面。

优选的,相邻所述侧壁之间形成圆角。

本发明还提供一种蒸镀设备,包括如上所述的蒸镀坩埚。

优选的,所述导热柱与所述本体的底壁一体成型,且所述底壁上与所述导热柱相对应的位置朝所述盖体的方向凹陷形成容置空间;

所述蒸镀设备还包括用于加热所述导热柱的加热装置,所述加热装置位于所述容置空间内。

本发明具有以下有益效果:

本发明提供一种蒸镀坩埚,包括本体和具有开口盖体,盖体设置于本体的顶部,本体的底壁上设置有导热柱,导热柱的顶端位于开口的位置。在蒸镀过程中,导热柱可以将热量传导至其周边的蒸镀材料,使本体内部的蒸镀材料受热蒸发,相比于仅通过本体的外壁的加热方式,蒸镀材料的蒸发均匀性更好,可以减小本体内部的蒸镀材料变质,从而提高真空蒸镀工艺成膜的质量。而且,导热柱的侧壁与开口的侧壁距离较近,导热柱能够将足够的热量传导至开口的侧壁,使开口的侧壁的温度较高,从而可以避免蒸镀材料冷凝并堆积在开口的侧壁上,进而提高蒸镀材料的蒸发速率的稳定性。

附图说明

图1为现有的蒸镀坩埚的纵截面图;

图2为本实施例1提供的蒸镀坩埚的纵截面图;

图3为本实施例1提供的蒸镀坩埚的俯视图;

图4为本实施例1提供的蒸镀坩埚的横截面图一;

图5为本实施例1提供的蒸镀坩埚的横截面图二;

图6为本实施例2提供的蒸镀设备的结构示意图;

图7为本实施例3提供的蒸镀设备的结构示意图。

图例说明:

1、本体 2、盖体 3、蒸镀材料 4、开口 5、导热柱

6、导热柱的顶面 7、导热柱的底面 9、中心轴 10、圆角

11、加热装置 13、容置空间

具体实施方式

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