[发明专利]一种量子点扩散板制成工艺及一种扩散板

权利要求书

1.一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：包括如下工艺步骤：

步骤1：溶液调配：

按比例分别称取红色量子点和绿色量子点，然后将两种量子点溶于有机溶剂中，然后将混有量子点的有机溶剂加入甲基丙烯酸甲酯(MMA)形成QD-MMA溶液；在调配好的QD-MMA溶液中加入光扩散剂，搅拌并超声震荡，使光扩散剂均匀分散在溶液中；其中光扩散剂占QD-MMA溶液的比例为0.1％～1％；

步骤2：溶液的干燥处理：

将过氧化二苯甲酰(BPO)加入步骤1中制得的溶液中并震荡使其充分溶解，再加入适量无水氯化钙除水干燥，抽滤得到干燥后的溶液；

步骤3：制备预聚合原浆：

干燥后的溶液转移至反应釜中进行预聚合，水浴回流温控80℃直至形成粘性薄浆，将其冷却至室温即得到预聚合原浆，将预聚合原浆封口保存待用；

步骤4：注模：

将预聚合原浆注入模具中，赶出气泡并将模具模口密封；

步骤5：烘烤聚合形成PMMA：

将灌浆后的模具在50℃的烤箱内进行低温聚合，当模具内的聚合物成为固体时升温到100℃，保持2小时，形成内部均匀分布有量子点和光扩散剂的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)；

步骤6：成型后的PMMA与模具分离：

将步骤5中成型后的聚合物和模具缓慢冷却至50-60℃，拆卸模具，得到完全固化的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)样板；

步骤7、扩散板板体制作：

将由步骤6制成的其内部均匀分布有量子点和光扩散剂的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)样板裁切，形成扩散板板体；

步骤8：制备水氧阻隔层：

在步骤7中的扩散板板体的外表面均匀涂覆水氧阻隔材料，并使其固化，即得到扩散板成品。

2.如权利要求1所述的一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：步骤1中所述绿色量子点和红色量子点的质量比在50:1～50:3之间。

3.如权利要求1所述的一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：步骤1中所述的有机溶剂为环己烷、正己烷、乙醇、甲醇、异丙醇、丙酮、乙酸乙酯、苯甲醚以及四氢呋喃中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：将混有量子点的有机溶剂逐滴加入甲基丙烯酸甲酯(MMA)，其中量子点占甲基丙烯酸甲酯(MMA)的比例为0.25％～1.25％。

5.如权利要求4所述的一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：有机溶剂与甲基丙烯酸甲酯(MMA)的比例为0.1％～2％。

6.如权利要求1所述的一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：步骤2中过氧化二苯甲酰(BPO)占甲基丙烯酸甲酯(MMA)的比例为0.4％～0.5％。

7.如权利要求1所述的一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：步骤4中模具包括上玻璃板、下玻璃板、密封硅胶条、厚度调节垫片、G型固定夹，上玻璃板、下玻璃板以及密封硅胶条组合形成模腔，模腔顶部留有灌注口。

8.如权利要求1所述的一种量子点扩散板制成工艺，其特征在于：步骤7中所述水氧阻隔膜的厚度为0.1～100μm之间；所述水氧阻隔材料为PE、PVA、EVOH、PVDC、PEN、PA、PP、Al₂O₃、ZrO₂、SiC、Si₃N₄、SiO₂、TiO₂以及硅酸盐中的一种或几种；所述水氧阻隔膜的固化方法为聚合物多层工艺、化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)、双磁控反应溅射工艺以及层层自组装(LBL)方法中的一种或几种。

9.一种扩散板，其由权利要求1-8中任一工艺制得，其特征在于：包括板体和涂覆在板体外表面的水氧阻隔层，量子点和光扩散剂均匀分散在板体内。