[发明专利]一种镀膜玻璃及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710371682.0 申请日: 2017-05-24
公开(公告)号: CN107162440A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 彭傲寒;吴志勇;刘源;饶建超 申请(专利权)人: 湖北弘港科技有限公司
主分类号: C03C17/42 分类号: C03C17/42;C03C17/38;C03C27/12;B32B17/06;B32B33/00;B32B37/10
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地址: 448200 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 玻璃 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种镀膜玻璃,包括玻璃基板和设于玻璃基板一面的膜层,其特征在于:所述膜层自玻璃基板向外依次分布为:第一复合层、第一功能层、第二复合层、第二功能层、保护层、变色层、抗污层。

2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述第一复合层与第二复合层由ZnO和TiO2混合组成,所述第一复合层与第二复合层的厚度为50~150nm。

3.根据权利要求2所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述ZnO的重量百分比为20%-80%,所述TiO2的重量百分比为80%-20%。

4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述第一功能层和第二功能层为Ag层,第一功能层和第二功能层的厚度为20~30nm。

5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述保护层为铑层,该铑层的厚度为15~25nm。

6.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述变色层为卤化银,该变色层的厚度为0.01-0.1nm。

7.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述抗污层为氟化有机硅烷聚合物,该抗污层的厚度为0.005~0.01nm。

8.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基板包含第一玻璃基板与第二玻璃基板,第一玻璃基板与第二玻璃基板之间设有贴合层,该贴合层的厚度为5~15nm。

9.根据权利要求8所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述贴合层为氟化铒。

10.一种制造镀膜玻璃的方法,采用真空磁控溅射,包括以下步骤:

(1)提供玻璃原片,在清洗机作用下清洗干净;

(2)玻璃原片在传送带作用下依次进入进口锁室,进口保持室,进口缓冲室和镀膜腔室;

(3)在镀膜腔室内,采用真空磁控溅射依次溅射第一复合层、第一功能层、第二复合层、第二功能层、保护层、变色层、抗污层;

(4)在玻璃基板未镀膜一侧溅射贴合层,将如权利要求9所述的镀膜玻璃中的第一玻璃基板与第二玻璃基板紧密贴合在一起,形成夹层玻璃;

(5)将步骤(4)中的夹层玻璃依次经过出口缓冲室、出口保持室、出口锁室,待喷粉备用;

所述进口锁室大气压强与外界压强平衡,进口保持室压强为10-2mbar,进口缓冲室压强为10-4mbar,镀膜腔室与进口缓冲室压强相等。

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