[发明专利]一种镀膜玻璃及其制备方法在审
申请号: | 201710371682.0 | 申请日: | 2017-05-24 |
公开(公告)号: | CN107162440A | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 彭傲寒;吴志勇;刘源;饶建超 | 申请(专利权)人: | 湖北弘港科技有限公司 |
主分类号: | C03C17/42 | 分类号: | C03C17/42;C03C17/38;C03C27/12;B32B17/06;B32B33/00;B32B37/10 |
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地址: | 448200 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
1.一种镀膜玻璃,包括玻璃基板和设于玻璃基板一面的膜层,其特征在于:所述膜层自玻璃基板向外依次分布为:第一复合层、第一功能层、第二复合层、第二功能层、保护层、变色层、抗污层。
2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述第一复合层与第二复合层由ZnO和TiO2混合组成,所述第一复合层与第二复合层的厚度为50~150nm。
3.根据权利要求2所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述ZnO的重量百分比为20%-80%,所述TiO2的重量百分比为80%-20%。
4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述第一功能层和第二功能层为Ag层,第一功能层和第二功能层的厚度为20~30nm。
5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述保护层为铑层,该铑层的厚度为15~25nm。
6.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述变色层为卤化银,该变色层的厚度为0.01-0.1nm。
7.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述抗污层为氟化有机硅烷聚合物,该抗污层的厚度为0.005~0.01nm。
8.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基板包含第一玻璃基板与第二玻璃基板,第一玻璃基板与第二玻璃基板之间设有贴合层,该贴合层的厚度为5~15nm。
9.根据权利要求8所述的镀膜玻璃,其特征在于:所述贴合层为氟化铒。
10.一种制造镀膜玻璃的方法,采用真空磁控溅射,包括以下步骤:
(1)提供玻璃原片,在清洗机作用下清洗干净;
(2)玻璃原片在传送带作用下依次进入进口锁室,进口保持室,进口缓冲室和镀膜腔室;
(3)在镀膜腔室内,采用真空磁控溅射依次溅射第一复合层、第一功能层、第二复合层、第二功能层、保护层、变色层、抗污层;
(4)在玻璃基板未镀膜一侧溅射贴合层,将如权利要求9所述的镀膜玻璃中的第一玻璃基板与第二玻璃基板紧密贴合在一起,形成夹层玻璃;
(5)将步骤(4)中的夹层玻璃依次经过出口缓冲室、出口保持室、出口锁室,待喷粉备用;
所述进口锁室大气压强与外界压强平衡,进口保持室压强为10-2mbar,进口缓冲室压强为10-4mbar,镀膜腔室与进口缓冲室压强相等。
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