[发明专利]一种软模板脱模机构

说明书

本发明公开一种软模板脱模机构，用于将软模板从母模板上脱离，其包括：机架；吸附盘，设置于机架上，在吸附盘的吸附面设有多个吸附嘴，多个吸附嘴与抽真空装置连接，吸附盘的吸附面为斜面。本发明一种软模板脱模机构结构简单，从边缘开始揭取软模板，不会对软模板造成污染和损伤，工作效率高。

技术领域

本发明涉及软模板制备装置，具体涉及一种软模板脱模机构。

背景技术

纳米压印技术，是微纳米器件制作工艺中的一个重要技术，纳米压印技术最早由Stephen Y Chou教授在1995年率先提出，这是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术。纳米压印技术的定义为：不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形，而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。

软模板是一种简单方便的纳米压印模板复制材料，通常由本体材料和固化剂按一定比例混合而成，去除气泡后浇注在母模板表面，通过加热固化成弹性硅橡胶材料的工作模板。

现有技术中，当软模板在生产制备好后，需要人工将软模板从母模板上进行揭取脱离，效率低下，且会对软模板造成污染和损伤。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提出了一种软模板脱模机构，其结构简单，从边缘开始揭取软模板，不会对软模板造成污染和损伤，工作效率高。

为了达到上述目的，本发明的技术方案如下：

一种软模板脱模机构，用于将软模板从母模板上脱离，包括：机架；吸附盘，设置于机架上，在吸附盘的吸附面设有多个吸附嘴，多个吸附嘴与抽真空装置连接，吸附盘的吸附面为斜面。

本发明一种软模板脱模机构结构简单，采用具有斜面的吸附盘从软模板的边缘开始对软模板进行揭取，相较于平面式的揭取，该机构不易对软模板的边缘造成损伤，而采用抽真空的揭取方式不会对软模板造成污染，保证后期的压印品质。

在上述技术方案的基础上，还可做如下改进：

作为优选的方案，从吸附面到达软模板最近距离的一端为吸附盘的揭取端，从吸附面到达软模板最远距离的一端为吸附盘的定位端。在机架上设有揭取驱动装置，揭取驱动装置的固定端与机架铰接，揭取驱动装置的传动端与吸附盘的揭取端铰接。吸附盘的定位端与机架铰接。

采用上述优选的方案，增加新的揭取驱动装置为吸附盘的边缘揭取方式提供新的动力源，保证软模板可以被成功揭取，且不会对其边缘造成损伤。

作为优选的方案，在机架上设有向外延伸的第一铰接部，在吸附盘的定位端设有与第一铰接部位置相对应的第二铰接部，第一铰接部与第二铰接部铰接。

采用上述优选的方案，第一铰接部和第二铰接部为吸附盘的运动轨迹预留充足的空间。

作为优选的方案，吸附盘可在机架上升降。

采用上述优选的方案，便于对软模板进行揭取和转移。

作为优选的方案，机架包括：升降板、固定板以及设置于升降板和固定板上的滑动组件，吸附盘设置于升降板上。

采用上述优选的方案，升降板可以带动吸附盘稳定升降。

作为优选的方案，多个吸附嘴在吸附面呈均匀分布。

采用上述优选的方案，结构简单，安装便捷。

作为优选的方案，吸附嘴的吸附口径从吸附盘的揭取端向吸附盘的定位端逐渐减小。

采用上述优选的方案，进一步保证吸附盘可以从软模板的边缘开始对软模板进行吸附。

作为优选的方案，吸附嘴的分布密度从吸附盘的揭取端向吸附盘的定位端逐渐减小。