[发明专利]具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法有效
申请号: | 201710344849.4 | 申请日: | 2017-05-16 |
公开(公告)号: | CN107230697B | 公开(公告)日: | 2020-09-08 |
发明(设计)人: | 彭军军 | 申请(专利权)人: | 纳晶科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310052 浙江省杭州市滨*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 像素 结构 光电 器件 打印 方法 | ||
本申请提供了一种具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法。该具有像素结构的基板中的像素结构包括具有子像素的像素单元,每个子像素包括像素隔离区域和发光区域,发光区域为位于像素隔离区域的像素隔离结构和基板围成的凹陷所在区域,凹陷用于盛放喷墨打印装置喷出的液体材料,凹陷底面的形状为第一平面图形S1,1≤S2的面积/S1的面积≤1.5,且S2与S1具有交集,交集为S1,S2为喷墨打印装置在与测试基板距离特定高度下单次打印喷出的液体材料、在测试基板的平坦表面上干燥后形成的第二平面图形,测试基板为未设置有像素隔离层结构的导电基板。本申请实现了提高发光区域的膜层均匀性和发光器件发光均匀性的效果。
技术领域
本申请涉及像素设计技术领域,具体而言,涉及一种具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法。
背景技术
近些年,溶液法逐渐替代传统的蒸镀法成为制作电致发光器件的研究热点,制作电致发光器件的过程主要包括将相应功能墨水设置到对应的像素中,一般像素包括像素界定层和发光区域,发光区域是像素界定层和基板围成的凹坑,该凹坑用于盛放墨水,墨水干燥后形成各个膜层(各个功能层和发光层),各膜层与上下电极构成发光器件。
溶液法中的喷墨打印法因可适用于大规模发光器件的生产,而被视为最具前景的方法之一。然而现有的喷墨打印法所制备的发光器件由于像素发光区域设计的局限性容易出现膜层不均匀的现象。现有的发光区域通常呈圆角矩形,如图1所示,发光区域1’由像素界定层2’隔离开,发光区域1’可容纳墨水的体积相对较大,需要打印设备打印多滴墨水3’于发光区域,以满足设置要求,在此过程中由于打印的墨滴在发光区域内有重叠,需要依靠墨滴的自然流动而铺展,往往在发光区域的上下两头(近似半圆形)出现墨滴空白,或者出现在交叉部位墨水固含量高于非交叉部位的现象,这样的发光区域设计会加重膜层不均匀的程度,而膜层不均匀常会导致器件的发光性能降低。
现有技术中有通过调节墨水的配方以期改善膜层不均匀的方案,但改善效果并不理想,用于调节配方的调节剂本身可能对发光器件的发光和导电等性能带来不良影响,此外,由于引入了调节工艺还会增加墨水配置工艺的复杂程度。
由上可知,现有的喷墨打印法所制备的发光器件容易出现膜层不均匀的问题仍需进一步的研究解决。
发明内容
本申请的主要目的在于提供一种具有像素结构的基板、含其的光电器件和打印方法,以解决现有的喷墨打印法所制备的发光器件容易出现膜层不均匀的问题。
为了实现上述目的,根据本申请的一个方面,提供了一种具有像素结构的基板,像素结构包括一个或多个像素单元,每个像素单元包括一个或多个子像素,每个子像素包括像素隔离区域和发光区域,像素隔离区域对应的基板上设置有像素隔离结构,发光区域为像素隔离结构和基板围成的凹陷所在区域,凹陷用于盛放喷墨打印装置喷出的液体材料,发光区域的凹陷底面的形状为第一平面图形S1,S1的大小由如下公式确定:1≤S2的面积/S1的面积≤1.5,且S2与S1具有交集,交集为S1,其中,S2为喷墨打印装置在与测试基板距离特定高度下单次打印喷出的液体材料在测试基板的平坦表面上干燥后形成的第二平面图形,测试基板为未设置有像素结构的导电基板。
进一步地,每个像素单元包括多个子像素,多个发光区域对应的多个第一平面图形S1的形状选自圆形、椭圆形和正n边形中的一种或多种,其中,n为大于等于6的整数。
进一步地,在发光区域为椭圆形的情况下,椭圆形的长轴的长度2a和短轴的长度2b满足如下公式:b≤a≤2b。
进一步地,特定高度为喷墨打印装置打印时喷嘴距离具有像素结构的基板的凹陷底面的高度,优选特定高度大于等于0.4mm,且小于等于1mm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的